湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

公司擁有豐富的熱處理行業(yè)經(jīng)驗、眾多的行業(yè)專業(yè)人才、20多年來的引進消化再創(chuàng)新的實踐，公司始終堅持走產學研相結合的道路，形成了獨特的科技創(chuàng)新體系，使得公司能準確把握行業(yè)未來發(fā)展趨勢，不斷提升輝光離子滲氮爐設計和制造水平，不斷提升輝光離子滲氮爐專業(yè)加工服務水平，從而打造了公司的核心競爭力，為各界用戶提供的產品與服務。工件放人爐內作為陰極，爐體作為陽極，再通人少量氨、氮或氮亞混合氣體，然后在兩極間施加一定電壓使氮電離，氮電離后即以髙速沖擊工件，離子的動能轉化為熱能將工件加熱至滲氮溫度。

輝光離子滲氮的特點有：可節(jié)約能源和氨的消耗量，電能消耗為氣體氮化的1/2～1/5，氨氣消耗為氣體氮化的1/5～1/20。射頻磁控濺射氣體放電時等離子阻抗低，工作氣體擊穿點火電壓和維持異常輝光放電電壓比中頻靶電源時又要降低很多(點火電壓只有直流放電等離子輝光放電時的五分之一~八分之一)。易于實現(xiàn)局部氮化，只要設法使不欲氮化的部分不產生輝光即可1，非滲氮部位便于保護，采用機械屏蔽、用鐵板隔斷輝光，即可保護。

Roth等人在實驗室的一臺氣體放電等離子體實驗裝置中實現(xiàn)了Ar、He和空氣的“APGD”。?(經(jīng)濟型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調節(jié)范圍偏窄，若相關參數(shù)選配合適，一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對固定和單一的工業(yè)生產中，其優(yōu)點是靶電源價格可以相對便宜。1993年Okazaki小組利用金屬絲網(wǎng)（絲直徑0.035mm，325目）電極為PET膜（介質）、頻率為50Hz的電源，在1.5mm的氣體（亞氣、氮氣、空氣）間隙中做了大量的實驗，并宣稱實現(xiàn)了大氣壓輝光放電。