之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價更少。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。你都了解清楚了嗎？

實際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時間確定，正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2，具體以曝光尺為準(zhǔn)；線路曝光尺5 --8格，油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光時必須抽真空充分，以免曝光不良，一般要求650mmHg以上真空度；

顯影時，顯影點控制在50 --70%以內(nèi)，壓力1.5--2.0kg/cm2。

曝光過度會導(dǎo)致顯影不凈；曝光能量不足會導(dǎo)致顯影過度。

若干膜超過有效期使用，這層粘結(jié)劑就會失效，在貼膜后的電鍍過程中夾失保護作用，形成滲鍍。解決的方法就是在使用前認(rèn)真檢查干膜的有效使用周期。溫度與濕度對貼膜的影響：不同的干膜都有比較適宜的貼膜溫度。所使用的為水熔性干膜，空氣中的濕度對其影響較大。當(dāng)濕度較大時，干膜的粘結(jié)劑在貼膜溫度較低時可達(dá)到良好的粘結(jié)效果。


特別南方地區(qū)夏季氣溫偏高，從長期的實踐中摸索一套較好的溫度控制參數(shù)，在20-250C情況下，相對濕度75％以上時，貼膜溫度低于730C較好；相對濕度為60-70％時，貼膜溫度70-800C較好；曝光時間過長或曝光不足：在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應(yīng)，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果比較好，就必須有一個好的曝光量。