氮化鈦的物理性質(zhì)：熔點(diǎn)2950.6～3205.8℃，線膨脹系數(shù)為5.712～7.053×106(1/K)(25℃)，密度為5.435～5.447g/cm3，熱導(dǎo)率為25.081(W·m-1·K-1)(300～2000℃)，莫氏硬度為8～9。一般情況下，氮化鈦粉末的顏色為黃褐色，顏色為黑色的是超細(xì)氮化鈦粉末，顏色為黃色的是氮化鈦晶體，大量聚集的氮化鈦晶體有金黃色金屬光澤。

氮化鈦的化學(xué)性質(zhì)：比較穩(wěn)定，與水和酸（鹽酸和硫酸）等均不發(fā)生反應(yīng)，但它能融入氫fu酸，若氫fu酸中含有氧化劑，則氮化鈦會(huì)完全溶解在氫fu酸中。氮化鈦溶解在強(qiáng)堿溶液中會(huì)分解并釋放出氨氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

因此，如果要防止蒸發(fā)粒子的大量散射，在真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備中，真空鍍膜室的起始真空度必須高于10-2Pa。由于殘余氣體在蒸鍍過程中對(duì)膜層的影響很大，因此分析真空室內(nèi)殘余氣體的來源，借以消除殘余氣體對(duì)薄膜質(zhì)量的影響是重要的。真空室中殘余氣體分子的來源主要是真空鍍膜室內(nèi)表面上的解吸放氣、蒸發(fā)源釋放的氣體、抽氣系統(tǒng)的返流以及設(shè)備的漏氣等原因所造成的。若鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及制造良好，則真空抽氣系統(tǒng)的返流及設(shè)備的漏氣并不會(huì)造成嚴(yán)重的影響。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

高精度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵和真空壓力傳感器，真空壓力傳感器設(shè)置于中央真空室內(nèi)；新型高精度真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度，提高了產(chǎn)品加工工藝的重復(fù)性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制