曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時間可根據(jù)具體情況加長點(diǎn)。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準(zhǔn)確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

蝕刻、曝光和顯影是什么意思?

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上.

3、顯影：通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉.

絲印感光蝕刻油墨是一種單組分蝕刻油墨，其主要成分是環(huán)氧樹脂。主要應(yīng)用于電路板線路的蝕刻以及五金標(biāo)牌、表殼、不銹鋼板、鋁板等金屬材料的酸性和堿性腐蝕中。一般蝕刻液為氯化鐵或者氯化銅，感光蝕刻油墨印刷于金屬表面烘干或自然干燥后，然后曝光顯影，利用蝕刻液腐蝕掉未曝光的部分。

曝光后要檢測曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

之后就進(jìn)行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。