真空電鍍pvd真空電鍍公司

真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，真空電鍍當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時(shí)，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

 真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進(jìn)行的但這時(shí)鍍膜過(guò)程是以電荷傳遞的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

電鍍加工pvd真空電鍍公司

電鍍工藝進(jìn)程：一般包含電鍍前預(yù)處理，電鍍及鍍后處理三個(gè)階段。

對(duì)電鍍層的要求：

1、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致﹑平坦﹑厚度均勻

2、鍍層應(yīng)具有規(guī)則的厚定和盡可能少的孔隙

3、鍍層與基體金屬﹑鍍層與鍍層之間，應(yīng)有杰出的結(jié)合力

4、鍍層應(yīng)具有規(guī)則的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度﹑硬度﹑導(dǎo)電性等。

電鍍加工過(guò)程中可能會(huì)出現(xiàn)各種問(wèn)題，給生產(chǎn)帶來(lái)不方便。電鍍加工過(guò)程的不規(guī)則性是一個(gè)遍及的問(wèn)題。

    爐體可挑選由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。 真空鍍膜設(shè)備依據(jù)工藝要求挑選不同標(biāo)準(zhǔn)及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸騰、電子束蒸騰、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。 夾具工作方法有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方法，用戶可依據(jù)基片尺度及形狀提出相應(yīng)要求，滾動(dòng)的速度規(guī)模及滾動(dòng)精度：一般可調(diào)及變頻調(diào)速等。