曝光機的工作原理

曝光機是集電子光學(xué)、電氣、機械、真空、計算機技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導(dǎo)體加工設(shè)備，70年代以后廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路制造業(yè)，是在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光。

曝光機在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細圖形。

曝光機主要用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學(xué)，微機電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細印制和精度對準(zhǔn)的技術(shù)要求。湖泊供養(yǎng)曝氣機價格,湖泊供養(yǎng)曝氣機價格

轉(zhuǎn)碟曝氣機技術(shù)參數(shù)

轉(zhuǎn)碟曝氣機已在國內(nèi)多個城市生活污水處理、造紙污水處理、制藥廢水處理、皮革污水處理等各類污水處理工程中廣泛應(yīng)用。

轉(zhuǎn)碟曝氣機技術(shù)參數(shù)：

設(shè)備型號：TXZB-22/1500

曝氣轉(zhuǎn)盤直徑：1500mm

曝氣轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速：52rpm

設(shè)計配用功率：22 kw

曝氣轉(zhuǎn)盤浸沒深度：510mm

曝氣轉(zhuǎn)盤充氧效率（動力效率）：3.35 O2/kw?h(以消耗功率計)

曝氣轉(zhuǎn)盤工作水深：≤5.2ds/m

曝氣轉(zhuǎn)盤水平跨度：≤9m（根據(jù)用戶要求）

曝氣轉(zhuǎn)碟安裝密度： ＜5ds/m

設(shè)計耗用功率密度：10-12.5w/m3

曝氣轉(zhuǎn)碟充氧能力：44.2kg O2/h湖泊供養(yǎng)曝氣機價格,湖泊供養(yǎng)曝氣機價格

諸城市騰翔環(huán)保機械有限公司生產(chǎn)的曝氣機，原理詳解。6，缺乏法律規(guī)范，礦用潛水電機行業(yè)統(tǒng)一的抗過載測量標(biāo)準(zhǔn)，因此，市場缺乏競爭，標(biāo)準(zhǔn)化的渦凹曝氣機設(shè)備。在曝氣時，射流流體壓力的作用下，射流攜帶氧分子和微小氣泡，從散流器的噴嘴中傾斜向下噴出、擴散，形成對水體和對生化池底部污泥沖擊、攪拌后，由池底緩緩上升至水面，微氣泡在水中停留時間一般長達30秒以上，使空氣中的氧充分被溶解和吸收，提高了氧轉(zhuǎn)移效率和充氧能力。
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