公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

玻璃反光解決方案

使用背光源，在玻璃下方用光源吧吧整個玻璃照亮可使玻璃不會反光在條件不允許使用背光源情況下使用 上光源 吧玻璃全部照亮，不要產(chǎn)生點光源得效果在機器視覺標定時使用藍光效果會更好得標定如果以上解決不了得話，可選用陶瓷標定板，表面漫反射效果 不會反光，

用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?；蚰０濉９鈱W(xué)圖像處理中,掩?？梢允悄z片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時也用多值圖像。

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個，當施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構(gòu)造。硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。

掩膜版是對勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。