影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對(duì)鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽(yáng)極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過(guò)拋光處理，對(duì)于粗糙的表面，經(jīng)過(guò)微弧氧化，可修復(fù)的平整光滑；對(duì)于粗糙度低（即光滑）的表面，則會(huì)增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化會(huì)有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化技術(shù)受哪些因素影響

1、時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化時(shí)間一般控制在10～60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng)，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

3、后處理對(duì)微弧氧化的影響微弧氧化過(guò)后，工件可不經(jīng)過(guò)任何處理直接使用，也可進(jìn)行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

1、可處理任意大小工件

可處理任意大小工件（超小，超大） 可進(jìn)行細(xì)長(zhǎng)管（可處理任何長(zhǎng)度工件） 復(fù)雜異形件（如深盲孔內(nèi)部） 特殊材料特殊性能膜層制備等高難度研究工作。

2、高結(jié)合力

基體原位生長(zhǎng)陶瓷膜，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),陶瓷膜致密均勻。

3、可處理的材料鎂、鋁、鈦、鋯、鉭、鈮等及其合金材料（包括含硅量較高的鋁合金）。

微弧氧化現(xiàn)象及特點(diǎn)

       在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，當(dāng)鋁合金上施加的電壓超過(guò)一定范圍時(shí)，鋁合金表面的氧化膜就會(huì)被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高，氧化膜的表面會(huì)出現(xiàn)輝光放電，微弧和火花放電燈現(xiàn)象。從微弧氧化電源技術(shù)要求來(lái)看，要實(shí)現(xiàn)脈沖電源波形變換多、參數(shù)調(diào)節(jié)范圍寬，必定使電路復(fù)雜化、造價(jià)提高、可靠性降低。在微弧氧化的過(guò)程下，原來(lái)生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長(zhǎng)，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的終厚度。