真空PVD鍍膜基本步驟

1、前處理工藝：褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。

2、鍍膜工藝：抽真空、加熱烘烤、漏率測(cè)試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。

3、后處理工藝：清洗：確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量。抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。加熱烘烤：爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測(cè)試：測(cè)試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜：沉積膜層。冷卻：避免工件氧化變色。

鍍膜設(shè)備的鍍膜方式及常會(huì)遇到的問(wèn)題

鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍

(1)鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)：成膜速度快0.1-50um/min，設(shè)備比較簡(jiǎn)單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長(zhǎng)機(jī)理較簡(jiǎn)單。

(2)缺點(diǎn)：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復(fù)性不夠好。

鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?

一。產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗Ar氣放大時(shí)間長(zhǎng)點(diǎn)。

二。清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。

三。工藝參數(shù)是否有變動(dòng)在膜厚和電流上可以做點(diǎn)調(diào)整。

真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

一、真空鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)：

真空卷繞鍍膜機(jī)由真空罐、真空抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)及電氣系統(tǒng)組成。

真空罐是整臺(tái)真空鍍膜設(shè)備的主體部件，其結(jié)構(gòu)為圓柱形筒體，左端為圓形封頭封閉，右端的法蘭與卷繞車的大圓板對(duì)接實(shí)現(xiàn)密封。

外部聯(lián)接抽氣管道，內(nèi)部空間用于在真空狀態(tài)中鍍制產(chǎn)品，分為上下室，上室是基材卷繞室，下室是鋁絲蒸發(fā)鍍膜室。

二、真空鍍膜機(jī)的工作原理：

真空罐的正面中上部裝有可供觀察基材運(yùn)行情況和觀察鍍層質(zhì)量的長(zhǎng)方形觀察窗，正面中下部裝有可供觀察送絲情況和蒸發(fā)舟加熱狀態(tài)的長(zhǎng)方形觀察窗，同時(shí)還裝有可供觀察收料軸、放料軸運(yùn)轉(zhuǎn)狀況的圓形視窗各一個(gè)。

真空罐的背面中下部開(kāi)有一方形的蒸發(fā)鍍膜室抽氣口，尾部圓封頭處開(kāi)有一圓形的卷繞室抽氣口。真空罐的底部裝有水箱，用于罐體的冷卻，頂部裝有真空測(cè)量規(guī)管用于測(cè)量真空室內(nèi)的壓力。

真空鍍膜機(jī)的安裝

真空鍍膜機(jī)應(yīng)安置于清潔而干燥的室內(nèi)。鍍膜工作室的環(huán)境應(yīng)是空氣清潔，設(shè)有空調(diào)設(shè)備，室溫一般在23~25℃之間，相對(duì)濕度為60%左右。

工作室溫度太高會(huì)影響抽速，溫度太低則機(jī)械泵難以起動(dòng)。室內(nèi)太潮濕會(huì)影響膜層質(zhì)量。

由于大多數(shù)膜料都有不同程度的毒性，當(dāng)鐘罩打開(kāi)時(shí)會(huì)飛散在室內(nèi)空氣中，因此在鐘罩附近應(yīng)安裝抽風(fēng)設(shè)備，以便在鐘罩打開(kāi)時(shí)抽掉真空室內(nèi)的有毒氣體與飛揚(yáng)的碎屑。

鍍膜機(jī)應(yīng)裝在靠墻處，但四周應(yīng)留有檢修與操作空間，并有冷卻水源，水壓約為3個(gè)大氣壓。鍍膜機(jī)的防振要求不高，無(wú)需特殊機(jī)座，但必須安置平穩(wěn)，不應(yīng)有振動(dòng)。