真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的方法

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機(jī)特點(diǎn)

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機(jī)具有：結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鉆頭等表面沉積超硬涂層，也可用于鐘表，眼鏡架，手機(jī)殼、鎖具，潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層，本設(shè)備可實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用沉積多種膜層，膜層細(xì)膩，有純鈦（Ti）氮化鈦（TiN）氧化鈦（TiO）純鋯（Zr）氮化鋯（ZrN）碳化鈦（TiC）純鉻（Cr）氮化鉻（CrN）碳氮化鈦（TiCN）氮化鋁鈦（TiAlN），PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,藍(lán)色等。亮度好，飽滿度好

至成真空科技可以根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。

真空鍍膜的膜層厚度如何測(cè)量？

在使用真空鍍膜機(jī)鍍膜之后，為了需要可能會(huì)要測(cè)量膜層的厚度，測(cè)量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的精準(zhǔn)度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。

光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿珳?zhǔn)地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。

精準(zhǔn)度的改進(jìn)源于很多因素，但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。