PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進(jìn)行輝光放電，這時Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備用途：

專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備用途：主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等實驗研究與應(yīng)用。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊Ar氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電。

不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等。磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機(jī)殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機(jī)顯示、數(shù)碼相機(jī)和掌聲電腦等。