中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽(yáng)極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹?。因此，提高了濺射過(guò)程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對(duì)靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類(lèi)設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標(biāo)簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競(jìng)爭(zhēng)力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，在滿足當(dāng)今和未來(lái)市場(chǎng)需求的同時(shí)，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無(wú)限的可能性，在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力，應(yīng)用大量的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量傳感器，使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時(shí)又是非常靈活和靈活的，當(dāng)作為一個(gè)研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的。可旋轉(zhuǎn)磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個(gè)過(guò)程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時(shí)運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測(cè)所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因

之前有少數(shù)客戶會(huì)咨詢我們，為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來(lái)的膜，偶爾會(huì)出現(xiàn)異樣的情況，問(wèn)具體是什么原因。經(jīng)過(guò)我們技術(shù)人員上門(mén)檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費(fèi)水平的提升，人們對(duì)產(chǎn)品外觀要求也越來(lái)越更高，PVD鍍膜的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來(lái)越多的制造業(yè)廠家認(rèn)可和喜愛(ài)，它的優(yōu)勢(shì)也是顯而易見(jiàn)的。大家都知道機(jī)器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強(qiáng)。但是大家也都知道它的缺點(diǎn)，PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個(gè)行業(yè)的痛點(diǎn)。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門(mén)檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品外觀的提高，真空鍍膜技術(shù)在未來(lái)會(huì)有更廣闊的發(fā)展前景。