真空鍍膜機(jī)磁控濺射主要工藝流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結(jié)合力，需要對(duì)基片進(jìn)行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4、Ar氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內(nèi)，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5、預(yù)濺射，預(yù)濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質(zhì)量；

6、濺射，Ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場(chǎng)和電場(chǎng)的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達(dá)基片表面沉積成膜；

7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數(shù)有差異，結(jié)合力小，退火時(shí)薄膜與基片原子相互擴(kuò)散可以有效提高粘著力。

真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復(fù)性比較好，附著力強(qiáng)。

依據(jù)濺射源的不同，真空鍍膜機(jī)磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區(qū)別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機(jī)射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產(chǎn)品使用的是射頻磁控濺射鍍。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

前一段時(shí)間有一個(gè)采購光學(xué)鍍膜機(jī)的客戶簽訂協(xié)議的時(shí)候，咨詢我這個(gè)問題，真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個(gè)環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識(shí)和注意事項(xiàng)，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識(shí)。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項(xiàng)，加強(qiáng)大家的設(shè)備方面的知識(shí)和技能。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會(huì)被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個(gè)準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對(duì)于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時(shí)，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時(shí)（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對(duì)于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達(dá)到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個(gè)波長。單層膜只對(duì)某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實(shí)現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實(shí)現(xiàn)。

人們對(duì)增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時(shí)也掌握了不少先進(jìn)的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進(jìn)步作出了重大貢獻(xiàn)。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)有以下三點(diǎn)：

一、漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備：

漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實(shí)Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強(qiáng)調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計(jì)出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費(fèi)光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡(jiǎn)單，粒子能量高，獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號(hào)采集系統(tǒng)，對(duì)鍍膜過程產(chǎn)品片實(shí)現(xiàn)直接監(jiān)控。相對(duì)于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實(shí)際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進(jìn)一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時(shí)間。

真空鍍膜機(jī)分類

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。