真空鍍膜磁控濺射包括很多種類(lèi)。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

對(duì)一些產(chǎn)品，如許多板件、管件、鑄件、鍛件和化工用的槽池等，壁厚設(shè)計(jì)時(shí)除了要考慮必要的機(jī)械強(qiáng)度保障以外，還必須預(yù)留一些腐蝕余量；

真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行真空鍍膜。鏡頭的真空鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長(zhǎng)的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對(duì)這一波長(zhǎng)的色光的反射降至較低。顯然，一層膜只對(duì)一種色光起作用，而多層真空鍍膜則可對(duì)多種色光起作用。

企業(yè)要獲得市場(chǎng)，只有不斷地使自己的產(chǎn)品質(zhì)量滿足客戶的要求，讓客戶滿意，在客戶面前逐步培育起、持久的質(zhì)量信譽(yù)。建立有效的電鍍產(chǎn)品質(zhì)量保障體系并實(shí)施這些內(nèi)容后，將進(jìn)一步提高適應(yīng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的能力和管理的有效性。電鍍產(chǎn)品質(zhì)量保障體系包括三個(gè)方面：一是設(shè)備保障體系;二是技術(shù)保障體系;三是管理保障體系。這三者相互依存，相互制約，又相互促進(jìn)。


水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均?有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的效果也不是很理想）。而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應(yīng)用范Χ被限制了。而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了。真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。簡(jiǎn)單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過(guò)等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù)。