真空電鍍機(jī)的操作規(guī)范

1.正常工作的真空電鍍機(jī)在開(kāi)動(dòng)時(shí)，需要先將水管打開(kāi)，在真空電鍍機(jī)運(yùn)行之中要時(shí)刻注意水壓的狀態(tài)；

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，要特別注意線路方面的情況，不得觸動(dòng)高壓線頭，以防觸電；

3.在用真空電鍍機(jī)的電子槍的時(shí)候，要在鐘罩的外面圍上一定的防護(hù)措施，在觀察真空電鍍機(jī)內(nèi)部工作狀態(tài)的時(shí)候，需要隔著一定的防護(hù)玻璃，觀察者建議戴上鉛玻璃的研究，以防X射線對(duì)人體造成危害；

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

4.在對(duì)多層介質(zhì)膜進(jìn)行鍍膜時(shí)，要記得安裝好通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)對(duì)有害粉塵進(jìn)行清除；

5.真空電鍍機(jī)的酸洗裝置需在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行操作，且操作時(shí)工作人員應(yīng)戴好橡膠手套；

6.真空電鍍工作完畢之后，應(yīng)進(jìn)行斷水和斷電的操作，防止出現(xiàn)資源浪費(fèi)和設(shè)備意外。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

繞鍍能力強(qiáng)

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。

清洗過(guò)程簡(jiǎn)化

現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果較好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

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主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級(jí)濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由弦欢ù艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見(jiàn)的射頻是電焊機(jī).濺射過(guò)程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對(duì)設(shè)備更加了解。