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發(fā)布時間:2020-11-16 15:09  







平面拋光機的拋光加工速度與哪些因素有關(guān)是什么因素決定了

平面拋光機的拋光加工速度與哪些因素有關(guān) 是什么因素決定了平面拋光機的拋光加工速度,不少研磨拋光加工廠往往都很在意工件加工的成本,以及加工的效率,成本越低,效率越高越好。就是說要提高平面拋光機的運作速率是決定工件生產(chǎn)效率的關(guān)鍵之一,其運作速率分別由發(fā)動機,磨盤,程控系統(tǒng)三者起較為重要的作用。 1、發(fā)動機是硬件,他的好壞主要影響著磨盤的轉(zhuǎn)速和能否有力帶動磨盤轉(zhuǎn)動,并影響工件和磨盤的摩擦力度。 2、程序控制系統(tǒng)是屬于軟件系統(tǒng),如果程控系統(tǒng),反應(yīng)靈敏,那么工件在平面拋光機進行研磨拋光的過程中,當(dāng)達到某一個有效值時,程控系統(tǒng)就會反應(yīng)迅速的做出下一步指令,這樣就縮短機器響應(yīng)的時間,從而能達到的執(zhí)行各項命令,這也是機械自動化中軟件系統(tǒng)的主要作用及優(yōu)勢。 3、磨盤及拋光布。磨盤及拋光墊是平面拋光機上的一個重要組件,工件終的研磨效果,精度等跟磨盤及拋光墊的選用息息相關(guān)。磨盤及拋光墊影響運作效率是因為磨盤的切削力大小決定著工件達到效果值的時間。工件是通過和磨盤相對運動產(chǎn)生摩擦來達到表面的平整與光滑,所以磨盤及拋光墊的材質(zhì)決定在磨盤的切削力,磨盤的重量決定著磨盤的轉(zhuǎn)速,進而影響著整個機器的運作效率。


平面研磨機研磨運動要滿足哪些要求

平面研磨機研磨運動要滿足哪些要求 平面研磨機在加工中,選擇合理地運動方式以及研磨軌跡是極為重要的一步,研磨運動中的是在于實現(xiàn)磨料的切削運動,因此運動狀況的好壞,將會直接的影響研磨加工時的精度以及生產(chǎn)的效率,所以平面研磨機在研磨加工運動中,研磨運動應(yīng)滿足以下幾點: 1.在加工工件時,整個研磨運動自始至終都應(yīng)該力求平穩(wěn)。特別是研磨面積小而細(xì)長的工件,更需要注意使運動力向的改變要緩慢,避免拐小彎,運動方向要盡顯偏于工件的長邊方向并放慢運動速度。否則會因運動的不平穩(wěn)造成被研表面的不平,或掉邊掉角等質(zhì)量瑕疵。 2.研磨運動應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸帶研磨拋光盤的全部表面。這樣可使其能夠表面均勻受載、均勻磨損,因而還才可以長久地保持研具本身的表面精度。 3.在研磨運動中,研具與工件之間應(yīng)處于還處于浮動的狀態(tài),而不應(yīng)是強制的限位狀態(tài)。這樣可以使工件與研磨拋光盤的表面能夠更好地接觸,把研具表面的幾何形狀能夠準(zhǔn)確有效地傳遞給工件,從而不會受到研磨拋光機本身精度的過多影響。 4.研磨運動應(yīng)保證工件受到均勻研威即被研工件表面上的每一點所運動的路程應(yīng)相等。這就需要研磨運動能夠作平面平行運動,而這種運動是能夠可使工件表面上任意兩點的連成線,在整個研磨運動中,都能夠始終保持平行,這對于保證工件的幾何形狀的精度以及尺寸均勻程度來說是至為重要的。 5.所選用的研磨運動應(yīng)使運動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過早地出現(xiàn)重復(fù)。這樣可以就可以使工件表面上的無數(shù)的切削條痕能夠有規(guī)律地相互交錯抵消,慢慢的越研越平,進而達到提高工件所要求的人表面精度的終目的。


控制研磨盤與工件之間溫度的技巧

控制研磨盤與工件之間溫度的技巧 平面研磨機在加工的過程中對于研磨盤與工件之間的溫度的把握也是需要解決的一個問題,需要把溫度控制在適當(dāng)?shù)臏囟?,超高適當(dāng)溫度就需要降溫,不然對機器和工件的損傷是很大的,在這個問題上,我們給機器添加了一個降溫裝置,這個裝置是在機器開啟的時候也自行啟動,在平面研磨機工作中,磨盤與溫度達到了一定的溫度之后降溫裝置中冷卻液就會流入磨盤和工件中,這樣的不僅可以達到降溫的效果同時還可以起到研磨液的效果。 平面研磨機屬于高精密機器,工件放于研磨盤上,研磨盤逆時轉(zhuǎn)動。工件自己轉(zhuǎn)動,在適當(dāng)?shù)膲毫ο拢ぜ惭心ケP做相反運動,產(chǎn)生摩擦,達到研磨效果,被廣泛運用于于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)晶體材料、石英晶片、硅片、諸片,導(dǎo)光板、閥片、液壓密、不銹鋼等以及光纖接頭等等各種材料的單面研磨與拋光。


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