靜電場(chǎng)清洗設(shè)備品牌

靜電場(chǎng)清洗設(shè)備品牌化學(xué)法

     利用化學(xué)藥劑使表面污染或覆蓋層與其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而被除去，如對(duì)垢層的酸洗、堿洗等。為使基材在化學(xué)清洗中不受腐蝕或使腐蝕率控制在允許范圍內(nèi)，通常在化學(xué)清洗液中要加入適量的緩蝕劑和起活化、滲透、潤濕作用的添加劑。方法：浸泡法、循環(huán)法、運(yùn)轉(zhuǎn)中清洗法也叫不停車化學(xué)清洗法。

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清洗工藝要素的選擇：

1、清洗介質(zhì)：采用超聲波清洗，一般有兩種清洗劑:化學(xué)溶劑和水基清洗劑。清洗介質(zhì)的化學(xué)作用，加上超聲波清洗的物理作用，兩種作用相結(jié)合，以對(duì)物體進(jìn)行充分、徹底的清洗。

2、清洗溫度：一般來說，超聲波在30℃-40℃時(shí)空化效果好。清洗劑則溫度越高越好，作用越顯著。通常實(shí)際應(yīng)用超聲波清洗時(shí)，采用40℃-60℃的工作溫度。

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形成裝置及影響因素

　　選擇適宜的放電方式可獲得不同性質(zhì)和應(yīng)用特點(diǎn)的等離子體，通常，熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產(chǎn)生，冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。

　　熱等離子體裝置[4]是利用帶電體(如刀狀或針狀和狹縫式電極)造成不均勻電場(chǎng)，稱電暈放電，使用電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時(shí)間對(duì)電暈處理效果都有影響。電壓升高、電源頻率增大，則處理強(qiáng)度大，處理效果好。但電源頻率過高或電極間隙太寬，會(huì)引起電極間過多的離子碰撞，造成不必要的能量損耗;而電極間距太小，會(huì)有感應(yīng)損失，也有能量損耗。處理溫度較高時(shí)，表面特性的變化較快。處理時(shí)間延長，極性基團(tuán)會(huì)增多;但時(shí)間過長，表面則可能產(chǎn)生分解物，形成新的弱界面層。