一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

X熒光鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)片選擇與使用

1．一般要求

   使用可靠的參考標(biāo)準(zhǔn)塊校準(zhǔn)儀器。后的測(cè)量不確定度直接取決于校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)塊的測(cè)量不確定度和測(cè)量精度。

   參考標(biāo)準(zhǔn)塊應(yīng)具有的已知單位面積質(zhì)量或厚度的均勻的覆蓋層，如果是合金，則應(yīng)知其組成。參考標(biāo)準(zhǔn)塊的有效或限定表面的任何位置的覆蓋層不能超過規(guī)定值的±5%.只要用于相同的組成和同樣或已知密度的覆蓋層，規(guī)定以厚度為單位（而不是單位面積質(zhì)量）的標(biāo)準(zhǔn)塊，將是可靠的。合金組成的測(cè)定，校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)不需要相同，但應(yīng)當(dāng)已知。5彩色CCD，變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦放大倍數(shù)：光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片：十二元素片、Ni/Fe5um、Au/Ni/Cu0。

金屬箔標(biāo)準(zhǔn)片。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標(biāo)準(zhǔn)片，就必須注意確保接觸清潔，無(wú)皺折紐結(jié)。任何密度差異，除非測(cè)量允許，否則必須進(jìn)行補(bǔ)償后再測(cè)。

2．標(biāo)準(zhǔn)塊的選擇

可用標(biāo)準(zhǔn)塊的單位面積厚度單位校準(zhǔn)儀器，厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來校正。標(biāo)準(zhǔn)片應(yīng)與被測(cè)試樣具有相同的覆蓋層和基體材料，但對(duì)試樣基材為合金成分的，有些儀器軟件允許標(biāo)樣基材可與被測(cè)試樣基材不同，但前提是標(biāo)準(zhǔn)塊基體材料與試樣基材中的主元素相同。2．標(biāo)準(zhǔn)塊的選擇可用標(biāo)準(zhǔn)塊的單位面積厚度單位校準(zhǔn)儀器，厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來校正。

3．標(biāo)準(zhǔn)塊的X射線發(fā)射（或吸收）特性及使用

   校正標(biāo)準(zhǔn)塊的覆蓋層應(yīng)與被測(cè)覆蓋層具有相同的X射線發(fā)射（或吸收）特性。

如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定，則厚度標(biāo)準(zhǔn)塊的基體應(yīng)與被測(cè)試樣的基體具有相同的X射線發(fā)射特性，通過比較被測(cè)試樣與校正參考標(biāo)準(zhǔn)塊的未鍍基體所選的特征輻射的強(qiáng)度，然后通過軟件達(dá)到對(duì)儀器的校正。

上照式：通常都有Z軸可移動(dòng)，所以可對(duì)形狀復(fù)雜的樣品（如凹面內(nèi)）做定位并且測(cè)試，一般可定位到2mm以內(nèi)的深度，如Thick800A，另外有些廠商在此基礎(chǔ)上配備了可變焦裝置，搭配先進(jìn)的算法，可定位到80mm以內(nèi)的深度，如XDL237

下照式：通常都沒有Z軸可移動(dòng)，所以不可對(duì)凹面等無(wú)法直接接觸測(cè)試窗口的位置進(jìn)行定位并測(cè)試，但操作簡(jiǎn)單，造價(jià)相對(duì)低；部分廠商或款式儀器搭載變焦裝置也可測(cè)試復(fù)雜形狀樣品，同時(shí)也抬高了價(jià)格

X-RAY測(cè)厚儀特點(diǎn)

1，價(jià)格高，機(jī)種不同，價(jià)格在10萬(wàn)~100萬(wàn)左右，可測(cè)試P（磷）~U（鈾），并且支持Rohs及元素分析功能等。

 2，無(wú)損檢測(cè)，Windows操作系統(tǒng)，使用簡(jiǎn)便。操作快速，能適應(yīng)多類鍍層，大量檢測(cè)，但體積較大，計(jì)算機(jī)除外約100000cm2，50000g左右。

3，測(cè)量厚度范圍較廣，

0.002um~100um左右，能測(cè)試5層以上膜厚，并且可以測(cè)量合金鍍層，也可分析鍍層元素和含量比。

4，測(cè)量精度高，1%左右，分辨率高，0.001um左右。

5，測(cè)頭的面積較小，對(duì)需測(cè)的樣品要求不高：0.1mmψ以下也可測(cè)量，基材厚度無(wú)要求。

6，可編程XYZ測(cè)量臺(tái)及大移動(dòng)范圍。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。

X射線熒光光譜儀是基于X射線熒光光譜法而進(jìn)行分析的一種常見分析儀器。通常認(rèn)為X區(qū)域0.01-10nm之間的一段電磁波譜，短波邊以伽馬射線為界，長(zhǎng)波邊與真空紫外線區(qū)域的實(shí)際界線。

X射線熒光光譜儀特點(diǎn)

1、一種真正意義上 的無(wú)損分析，在分過程中不會(huì)改變樣品的化學(xué)形態(tài)。具有不污染、節(jié)能低耗等優(yōu)點(diǎn)。

2、分析速度快，無(wú)須進(jìn)行樣品預(yù)處理，升值無(wú)須樣品的制備，X射線熒光光譜分析可以篩選大量的樣品。一般情況下檢測(cè)在3分鐘以下。

3、自動(dòng)化程度高。

4、可以同時(shí)測(cè)定樣品中的多種元素。

5、隨著分析技術(shù)的發(fā)展，儀器可以滿足很多行業(yè)的需求。如：地質(zhì)礦產(chǎn)，冶金、化工、材料、石油勘探、考古、合金、土壤、鍍層等諸多行業(yè)。

6、樣品的形態(tài)廣。

7、X射線熒光光譜儀分為波長(zhǎng)色散譜儀和能量色散譜儀可以滿足各行個(gè)元素的需求。

8、X射線熒光光譜儀中的能量色散儀是低分辨率光譜儀已是在線分析的選擇儀器之一。