而研磨的時間約為10~15min。在研磨結束前也需慢慢將研磨壓力降低(圖中Ⅲ區(qū))。晶片的研磨速率一般是隨以下參數而增加 [3]  ：（1）研磨壓力的增加；（2）研磨漿料流速的增加；（3）研磨漿料內研磨粉的增加；（4）研磨盤轉速的增加。研磨制程的完成，是以定時或定厚度(磨除量)為主。其中定厚度的方法，是利用一厚度探針，來感應晶片的厚度，一旦達到設定的厚度，機臺便會慢慢減壓而停止研磨。


光纖是圓柱形介質波導由纖芯、包層和涂敷層3部分組成，一般單模和多模光纖的纖芯直徑分別為5～15μm和40～100μm，包層直徑大約為 125~600μm。經過處理的光纖端面，理想狀態(tài)是一個光滑平面。但實際中，光纖端面的加工往往不能達到理想狀態(tài)，例如拋光不理想、有劃痕、表面或邊緣破碎損傷等等，都將使端面情況復雜化。對于光纖與激光器中其它元件的耦合以及光纖之間的熔接來說，要求光纖端部必須有光滑平整的表面，否則會增大損耗。


     光亮劑是專為各類研磨機、震光機、高速離心機、渦流機、滾筒、各類光飾機拋光各種材質加工，配合各種研磨石、、拋光、軟化工件表面以加速磨削，減少研磨石對工件的碰傷，使工件表面達到理想光澤度，對鋁合金、鋁制品表面拋光有顯著效果。      光亮劑可去除工件表面的披鋒、毛刺、氧化皮、油污等，且能提高產品表面的精光度，而且不會對產品及環(huán)境造成污染，可放心使用。      

我們的服務：

通過此項技術，讓化工企業(yè)科研實力的突飛猛進成為可能！

1、可以縮短研發(fā)周期，降低技術成本；

2、通過分析業(yè)內優(yōu)異樣品，用于指導配方改進，工藝優(yōu)化，對比自身摸索，提高研發(fā)效率。

3、解決相當一部分中小型化工企業(yè)的研發(fā)問題，大大降低化工企業(yè)的準入門檻。

配方分析應用領域：

淬火液，研磨液，防銹油，拉伸油，乳化油，潤滑油，極壓添加劑，金屬加工液，切削液，磨削液，線切割液，電火花液