潔凈室中的溫濕度控制

　　潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。相對(duì)濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺(jué)舒適的適度范圍。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

光學(xué)微電子凈化工程解決方案:

2、光學(xué)微電子行業(yè)凈化工程設(shè)計(jì)方案分析之水冷柜機(jī) 增壓風(fēng)柜 高1效送風(fēng)口

缺點(diǎn)：

　　A.需要小面積的機(jī)房。需要有冷卻塔、冷卻水泵的擺放位置;

　　B.空調(diào)機(jī)組與空調(diào)處理機(jī)組要集中布置;

　　C.造價(jià)較低。特點(diǎn)：這種方案可以是一次回風(fēng)也可以是二次回風(fēng)，具體根據(jù)車間的大小情況而定;這類方案一般可以適用于潔凈度為千級(jí)、萬(wàn)級(jí)、十萬(wàn)級(jí)等的凈化無(wú)塵廠房。

      無(wú)塵室標(biāo)準(zhǔn)溫濕度是多少?

      這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)要根據(jù)你的無(wú)塵室用途和生產(chǎn)的產(chǎn)品來(lái)決定，比如電子類產(chǎn)品有些膠到24攝氏度就會(huì)明顯地液化，沒(méi)法用了，那使用這種膠的無(wú)塵室溫度范圍肯定要低，濕度也是類似的。

      也就是說(shuō)，決定溫濕度標(biāo)準(zhǔn)的是你的產(chǎn)品、工藝要求，而不是無(wú)塵室本身。無(wú)塵室要根據(jù)你的用途需求來(lái)進(jìn)行設(shè)計(jì)，滿足你的溫濕度要求。沒(méi)有完全統(tǒng)一的無(wú)塵室溫濕度標(biāo)準(zhǔn)。

      盡可能選擇歷史悠久的名1牌滴丸機(jī)制藥機(jī)械企業(yè)，質(zhì)量上有保障。選擇技術(shù)成熟、質(zhì)量穩(wěn)定的機(jī)型，使包裝更快更穩(wěn)，低耗能、低手工、低廢品率。10萬(wàn)級(jí)無(wú)塵室的潔凈標(biāo)準(zhǔn)(iwuchen潔凈室公司整理)：1。制藥機(jī)械是耗材機(jī)子，如果購(gòu)進(jìn)低質(zhì)機(jī)器，在今后的日常生產(chǎn)中日積月累浪費(fèi)的包裝膜，決定不是個(gè)小數(shù)目，特別是現(xiàn)在包裝材料的上漲。

　　如有實(shí)地考察的提取罐，要注重大的方面，更要注意小細(xì)節(jié)，往往細(xì)節(jié)決定整機(jī)的品質(zhì)。盡可能帶樣品試機(jī)。歡迎客戶攜帶樣品來(lái)我公司試機(jī)！