從光刻機還是蝕刻機，至少可以看得出來國產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成就。

中微半導體7nm蝕刻機的量產(chǎn)，直接邁入世界行列，5nm蝕刻機也在實驗階段。而光刻機方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機與蝕刻機紛紛取得進展，也將成為如果挑戰(zhàn)臺積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實現(xiàn)芯片研發(fā)國產(chǎn)化、加工制造本土化。那個時候，將會造福諸如華為、小米、OV等國產(chǎn)手機。

     其次蝕刻機的均勻性對蝕刻產(chǎn)品影響也比較大。蝕刻機的均勻要可以調(diào)節(jié)，那么就要讓噴淋管能實現(xiàn)獨立壓力控制，這樣根據(jù)不同尺寸的產(chǎn)品對壓力進行微調(diào)（大尺寸的板水池效應大），從而得到一個較佳的均勻性。通常設備精度好不好，就是通過蝕刻均勻性好不好來衡量的。

      由于蝕刻是一個放熱 的化學反應，所以完善冷卻系統(tǒng)是很有必要的，而且冷卻管表面積需要符合滿載的時的放熱量的及時冷卻，溫度不宜超過2度，超過2度以上還不能冷卻到設定溫度，說明設計冷卻盤的面積過小，滿載生產(chǎn)時會出現(xiàn)超溫導致必須停止生產(chǎn)。

每片的厚度大約便是10納。米，現(xiàn)在國際前進的光刻機是荷蘭的AL公司。小到，10納米。臺積電買的都是它的光刻機，AL公司實踐上是美，國、荷蘭、德國等多個技能協(xié)作的效果，由于這方面的，研討難度太大。單個完畢不了，除了AL，國際上只需，咱們還在光刻機上盡力研制，咱們是遭到技能禁運的，不能買他進的產(chǎn)品，國內(nèi)，上海量產(chǎn)的是90納米的光刻機，技能上有距離。2017年，長。春光機所“極紫外光”技能打破。估計能抵達22-32納，技能距離縮小了，我信任，不久的將來，咱們的科技人員一定能研制出生，界的光刻機。

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