與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質(zhì)結(jié)合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。那些用材料制成、在高精尖科技儀器上發(fā)揮關(guān)鍵作用的精密零部件，其使用壽命往往直接影響設(shè)備的使用壽命。微弧氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡單，對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。微弧氧化技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)中應(yīng)用匯越來越廣泛。

      微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高，但并不意味著微弧氧化就屬于市場的專有產(chǎn)物。陶瓷層與基體牢固結(jié)合、結(jié)構(gòu)緊密，具有很高的韌性、耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。事實上，微弧氧化正體現(xiàn)出非常明顯的普及趨勢。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、、效果強、適合規(guī)模生產(chǎn)，又對環(huán)境污染小，因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期?？梢灶A(yù)見在未來的輕金屬領(lǐng)域，微弧氧化工藝也將會迎來大規(guī)模應(yīng)用的時代。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響

       1、微弧氧化溶液溫度低時，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過低時，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。

       2、微弧氧化溶液溫度過高時，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

       3、溶液酸堿度：酸堿度過大或過小，溶解速度都加快，氧化膜生長速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。

       4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

       微弧氧化技術(shù)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。微弧氧化電源具有單問直流、單向直流脈沖、正反向直流脈沖的多臺階自動恒流控制特點。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)