電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應(yīng)用及特點

真空鍍膜機已經(jīng)廣泛運用到我們的生活中，以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長壽命，防止腐蝕。然而隨著人民的生活質(zhì)量不斷的提升，對于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長使用壽命上，同時更多關(guān)注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機在日常生活中運用無處不在，使用的行業(yè)不一樣，鍍的產(chǎn)品不一樣，鍍膜機的型號是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應(yīng)用及特點。

首先簡單為大家介紹一下蒸發(fā)系列卷繞真空鍍膜機，它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產(chǎn)品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩(wěn)定等特點

電子束蒸發(fā)真空鍍膜機真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時，蒸發(fā)出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發(fā),一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔稀?

那么電子束蒸發(fā)鍍膜機的結(jié)構(gòu)特點有哪些呢？

（1）卷饒系統(tǒng)采用支流或交流變頻調(diào)速，具有運行平穩(wěn)、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面征集等特點；

（2）張力控制采用進口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，動作快速的特點；

（3）各組送絲由微機電機獨立控制，可總調(diào)或單獨調(diào)速，并有速度顯示；

（4）真空系統(tǒng)配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；

（5）配備大功率電源，鍍膜，膜層均勻性好。

光學(xué)真空鍍膜機薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為哪些膜

光學(xué)真空鍍膜機薄膜根據(jù)其用途分類、特性與應(yīng)用可分為：反射膜、增透膜/減反射膜、濾光片、偏光片/偏光膜、補償膜/相位差板、配向膜、擴散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生的種類有光學(xué)級保護膜、窗膜等。

光學(xué)真空鍍膜機光學(xué)薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，起表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各種向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學(xué)鍍膜機的客戶簽訂協(xié)議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識和注意事項，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項，加強大家的設(shè)備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進步作出了重大貢獻。

新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術(shù)，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

其實從一般的金屬靶材濺射、反應(yīng)濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術(shù)的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領(lǐng)域的發(fā)展趨勢。低壓濺射的關(guān)鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術(shù)中不足以維持靶材表面的輝光放電,導(dǎo)致濺射沉積無法繼續(xù)進行。通過優(yōu)化磁場設(shè)計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術(shù)可以實現(xiàn)在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現(xiàn)更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產(chǎn)生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應(yīng)提高等。目前,已經(jīng)實現(xiàn)了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。