氫氣檢漏法的基本原理

氫氣檢漏法是一種用5%的氫氣和95%的氮氣的混合氣作為示蹤氣體進行檢漏，稱作氫氮混合氣檢漏法，或氫氣檢漏法。5%氫氣與95%氮氣的混合氣體是不可燃的(ISO10156國際標準)，無毒性和腐蝕性，也不會對設(shè)備和環(huán)境產(chǎn)生不利影響。氫氣作為檢漏使用的示蹤元素，有著很多的優(yōu)點。檢漏時將檢漏器的靈敏度調(diào)到最da，一邊移動探頭，一邊偵聽，使能聽到的超聲波發(fā)出的聲音達到最da。

氫的分子量與氦氣相近，是所有化學元素中分子量較輕的元素，有很好的擴散性，逃逸性很強，吸附及粘滯性很低。由于氫分子移動速度要高于其他分子，因此使用安全的低濃度氫氣作為示蹤氣體，可以有著更快的響應(yīng)速度和更好的檢漏精度?；竟ぷ髟硎鞘褂脤ｉT開發(fā)的氫氣傳感器，它只對氫氣有響應(yīng)信號，而對其他氣體沒有響應(yīng)，屬于唯1性檢漏性檢漏方法。一旦出現(xiàn)信號響應(yīng)，說明有氫氣通過漏孔進入被檢件中，從而指示漏孔的位置與大小。同時，由于氫氣在一般環(huán)境中的含量濃度都非常低，所以不會因本底污染而導致誤報警。如真空設(shè)備（真空鍍膜機，液晶注入機，PVD，半導體外延等等），需要在真空條件下工作，要求在工作時，空氣不能漏進工作腔體，否則生產(chǎn)不能進行，或者產(chǎn)生次品，浪費人力物力。

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真空設(shè)備檢漏

一個真空系統(tǒng)(或容器)要求做到絕dui不漏氣是不現(xiàn)實的，也是沒有必要的，所以就要根據(jù)真空系統(tǒng)實際應(yīng)用的具體條件，對漏率指標提出合理的要求，只要漏孔的漏率已足夠小，使得平衡壓強低于真空系統(tǒng)工作所需的壓強，這些漏孔就是允許的。真空系統(tǒng)正常工作所能允許的做大漏氣量，稱da允許漏率，簡稱允許漏率。此值不僅是設(shè)計真空系統(tǒng)的一項主要指標，也是檢漏的依據(jù)?；竟ぷ髟硎鞘褂脤ｉT開發(fā)的氫氣傳感器，它只對氫氣有響應(yīng)信號，而對其他氣體沒有響應(yīng)，屬于唯1性檢漏性檢漏方法。

如果已知允許的總氣載，而沒有具體指明究竟有多大，那么，在設(shè)計合理的前提下。da允許漏率Q漏=0.1Q總，不同真空系統(tǒng)所允許的總漏率也不同。

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一個真空系統(tǒng)，經(jīng)相當長時間抽氣之后，仍然達不到預(yù)期的真空度，可能的原因有:抽氣情況不良，即抽氣系統(tǒng)本身的問題。放氣，即真空系統(tǒng)或容器內(nèi)部存在氣體或氣源。漏氣，即真空系統(tǒng)或被抽容器存在漏孔或縫隙。至于漏氣是檢漏技術(shù)所要解決的問題，即準確檢出漏孔并加以修補。常規(guī)檢漏內(nèi)容包括:用適當?shù)姆椒ㄅ袛嗾婵障到y(tǒng)中漏氣問題是否存在。確定漏氣率。找出泄漏部位，以便修補堵漏。氫氣檢漏法的主要設(shè)備(1)檢漏儀：采用上述工作原理制造的專用氫氣檢漏儀，由于氫氣的上述性質(zhì)，其靈敏度可以達到與氦檢相同水平。

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并預(yù)先根據(jù)環(huán)境中氦的含量對檢漏儀進行標定。若需在抽真空方式下準確地找到漏孔的

位置，可以通過對可yi位置噴氦并檢驗漏率是否有明顯的上升來完成。

與抽真空方式相反，嗅探方式是通過測量待測器件內(nèi)部氣體經(jīng)由器壁漏孔泄漏至器件外面的氦的多少來獲得漏率的大小的。預(yù)先向待測器件內(nèi)充入一定氦氣，

封閉測試端口，將嗅探探頭連接至檢漏儀，用嗅探探頭對待測器件表面的可yi部位進行掃描。如果發(fā)現(xiàn)漏率明顯的上升，便可判斷漏孔的位置。這種方式適合在待測器件內(nèi)部無法或者不能抽真空的情形下檢漏。但是，由于嗅探方式是通過檢測器壁外的大氣來進行測量的，大氣中的氦會帶來一個較高的漏率本底。這個本底雖可通過置零來清除，但仍會降低嗅探方式的靈敏度（嗅探方式xiao可檢測漏率小于5×10－6Pa·L/s，而抽真空方式的小于5×10－10Pa·L/s）。這些對密封性有要求的產(chǎn)品或設(shè)備，在投入使用前，就要先進行檢漏，使用中也要定期進行檢漏檢查。