PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點?

答:PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。

兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜能否代替化學電鍍？

答：在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進行PVD鍍膜前，都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較gao檔的五金制品上，對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，鍍后不須再加工。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

具有摩擦系數(shù)較低，耐磨損，膜層應力小好等優(yōu)點。用途：潤滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。⑥ZrN：ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時可有效減少切削瘤（積屑瘤）。⑦AL（L）:zui新劈裂電弧涂層，含Si納米復合涂層，極高抗熱性能，適合硬切削，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數(shù)0.3。zui高應用溫1200℃。加工硬度可達65HRC。用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT：zui新劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達58HRC。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。