表面處理工藝微弧氧化：在電解質(zhì)溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓生成陶瓷化表面膜層的過程，該過程是物理放電與電化學(xué)氧化協(xié)同作用的結(jié)果。

工藝流程：前處理→ 熱水洗→ MAO → 烘干

優(yōu)點(diǎn)：

1、陶瓷質(zhì)感，外觀暗啞，沒有高光產(chǎn)品，手感細(xì)膩，防指紋；

2、基材廣泛：Al, Ti, Zn, Zr, Mg, Nb, 及其 合金等；

3、前處理簡單，產(chǎn)品耐腐蝕性、耐候性，散熱性能佳。

缺點(diǎn)：目前顏色受限制，只有黑色、灰色等較成熟，鮮艷顏色目前難以實(shí)現(xiàn)；成本主要受高耗電影響，是表面處理中成本蕞高的其中之一。

拋光：利用柔性拋光工具和磨料顆?；蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。

針對(duì)不同的拋光過程:粗拋(基礎(chǔ)拋光過程)，中拋(精加工過程)和精拋(上光過程)，選用合適的拋光輪可以達(dá)到蕞佳拋光效果，同時(shí)提高拋光效率。

技術(shù)特點(diǎn)：提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，得到光滑表面或鏡面光澤，同時(shí)也可消除光澤。

蝕刻：通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

曝光法：工程根據(jù)圖形開出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

化學(xué)鍍鎳工藝特點(diǎn)介紹

化學(xué)鍍鎳是為了提高工件表面的耐蝕性和耐磨性。通常工件在未加工時(shí)與空氣接觸，容易在空氣中與氧氣和水發(fā)生氧化反應(yīng)。

化學(xué)鍍鎳工藝具有薄膜厚度均勻性，又稱化學(xué)鍍鎳?；瘜W(xué)鍍鎳是一種沒有電流通過而形成的結(jié)膜，所以由于電流分布不均勻，薄膜厚度不會(huì)不均勻?！　?

化學(xué)鍍鎳工藝可沉積在各種材料上，如:鋼件、鋁合金、塑料、半導(dǎo)體等材料表面。從而提高材料性能。

化學(xué)鍍鎳層中磷的含量是影響鎳鍍層電阻率和耐蝕性的重要因素，因此在電鍍工藝生產(chǎn)中，磷的含量已成為一個(gè)重要的指標(biāo)，如何控制化學(xué)鍍鎳工藝中的磷含量。