高純氮?dú)庵饕\(yùn)用在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護(hù)氣和運(yùn)載氣，化學(xué)氣相淀積時(shí)的載氣，液體擴(kuò)散源的攜帶氣，在高溫?cái)U(kuò)散爐中用作器件的保護(hù)氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮?dú)饧兌葹?9.99%以上。在航天技術(shù)中，液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。包裝：氣體高純一氧化碳的主要用途采用40LiterGB鋼瓶包裝，須使用不銹鋼瓶閥，壓力3。

為進(jìn)一步提高高純氧氣的內(nèi)外質(zhì)量，達(dá)到內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)，更好地適應(yīng)和滿足市場(chǎng)需要，為下一步真正達(dá)到和超過國(guó)標(biāo)要求創(chuàng)造條件，生產(chǎn)部籌劃、組織對(duì)高純氮、高純氬等高純氣體的生產(chǎn)成立高純氣生產(chǎn)小組，采取定崗、定人、專職、專瓶的控制措施，并對(duì)高純氣生產(chǎn)及管理制定了嚴(yán)格的規(guī)范，近一個(gè)月來進(jìn)行了人員培訓(xùn)、流程熟悉及試生產(chǎn)等工作，已逐步走上正規(guī)。對(duì)滿足客戶需求，提高企業(yè)信譽(yù)有了一個(gè)良好的開端?；省?、硝酸等化合物的制造，隋性保得介質(zhì)，速凍食品、低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的處延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣等。

高純氧氣高爐能源節(jié)約的概念

高純氧氣高爐特點(diǎn)

首先，氧氣高爐將純氧氣代替熱風(fēng)注入，高純氧氣高爐能以更高生產(chǎn)率運(yùn)行。在氧氣高爐中，由于在無氮環(huán)境下運(yùn)行，還原性氣體如CO和H2的濃度增加且廢氣氣體下降。

第l一，熔渣流動(dòng)和礦石的還原速率限制了高爐生產(chǎn)率。因?yàn)槿墼鲃?dòng)和礦石還原速率的限制被解除了，使氧氣高爐的生產(chǎn)率可達(dá)到傳統(tǒng)高爐的兩倍。

第二，大量的粉狀煤注入到鼓風(fēng)口，注入的同時(shí)焦比下降。由于純氧的燃燒，氧氣高爐的燃燒效率更高，因此氧氣高爐能夠在更高的粉煤率和更低的焦比下運(yùn)作。

第三，高純氧氣高爐能夠產(chǎn)生比傳統(tǒng)高爐具有更高熱值的高爐氣。傳統(tǒng)高爐和氧氣高爐中的高爐氣的熱值分別為3.0MJ/Nm3和6.4MJ/Nm3。高熱值的高爐氣在其它工藝中能得到有效的利用，例如動(dòng)力裝置和作為某種化學(xué)資源。