化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等。化學(xué)拋光對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對(duì)于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件，可采用化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光工藝流程

　　 化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序

拋光加工前，必須將拋光溶液加熱到工藝規(guī)范以內(nèi)。工藝要求拋光表面全光亮?xí)r，溶液溫度宜控制在95℃~100℃。若工藝要求拋光表面一般光亮?xí)r，溶液溫度宜控制在110℃~120℃?；瘜W(xué)拋光是一種將金相樣品浸入調(diào)配的化學(xué)拋光液中，借化學(xué)藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W(xué)拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡(jiǎn)便，不需任何儀器設(shè)備，只需要選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無(wú)變形層的表面。

化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢(shì)，在化學(xué)溶液中會(huì)產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會(huì)產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。

化學(xué)拋光的原理 金屬材料或制件在配比合理的腐蝕劑、氧化劑、添加劑組成的拋光溶液中浸 蝕,經(jīng)發(fā)生一系列反應(yīng)后,表面變得潔凈光亮,稱為化學(xué)拋光。