真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空鍍膜的物理過程

PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：

（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應。

（3）鍍料粒子在基片表面的沉積

  2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或濺射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

　真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜加工與電鍍?nèi)莾苫厥聝骸Ｕ婵斟兡ぜ庸な前盐矬w放入真空室里，在真空狀態(tài)下把所要鍍的金屬加熱蒸發(fā)，然后被鍍物體在里面轉(zhuǎn)動把金屬顆粒吸附在被鍍物體表面，鍍后為了不使金屬顆粒氧化在表面再噴透明面油從而增加結(jié)合力和隔離空氣。一般來說真空鍍膜加工不能鍍的材料是那些表面柔軟易變形的材料，還有就是不易干燥的材料。電鍍一般是ABS塑料才可以處理成導電體再電鍍。

真空鍍膜適用簡述：

1．建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。

2．制表業(yè)：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。

3．其它小五金：皮革．塑膠五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．

4．大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。

5、不銹鋼管和板（各種類型表面）

6、家具、燈具、賓館用具。

7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器皿等五金制品超硬裝飾膜。

8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米疊層膜。