布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產(chǎn)品工序要求的用室外，還應配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互獨立，凈化工程的面積應在保證基本要求前提下，與生產(chǎn)規(guī)模相適應。凈化工程在設計時，工程的墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板，其特點為美觀、剛性強。圓弧墻角、門、窗框等一般采用專用氧化鋁型材。設計凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級過濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級過濾器。也可分四級，增加一級過濾器。

1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級潔凈度的要求。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

在實際施工中，凈化項目通常分為專業(yè)，分工和分時。 這種安排有利于各種專業(yè)和工作類型的管理。 但是，易于進行多塵和無塵的交叉操作，應盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應該防止灰塵和有效清潔。設計凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級過濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級過濾器。也可分四級，增加一級過濾器。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。