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實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準(zhǔn);線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。
曝光時(shí)必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;
顯影時(shí),顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi),壓力1.5--2.0kg/cm2。
曝光過度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈;曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過度。
負(fù)膠:曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián),難溶于顯影液。特性:良好的粘附能力、良好的阻擋作用、感光速度快;顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹,所以只能用于2μm的分辨率。
正膠:正性光刻膠的曝光區(qū)域更加容易溶解于顯影液。特性:分辨率高、臺(tái)階覆蓋好、對(duì)比度好;粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
目前一般都是用正膠,對(duì)于線寬要求不高的時(shí)候或者一些特殊的用途(比如PSS等)可以選擇負(fù)膠
在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過程。通常指在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。
1、蝕刻:利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。
2、曝光:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上。
3、顯影:通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。