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東莞PC鏡片廠家信息推薦,延銘蝕刻標(biāo)牌定制

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-06 13:43  









不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法

不銹鋼標(biāo)牌在我們的日常生活當(dāng)中很常用,不銹鋼標(biāo)牌的制作方法也有很多,但是我近發(fā)現(xiàn)有很多的人在問(wèn)不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法,你知道不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法嗎?根據(jù)鄭州佳億標(biāo)牌設(shè)計(jì)制作公司專家的介紹,絲網(wǎng)印刷法蝕刻標(biāo)牌制作主要包括表面清理、印料調(diào)配、絲網(wǎng)印版制作印刷、腐蝕、清潔干燥等幾個(gè)步驟。如果還不是很了解的用戶,您也不需要擔(dān)心,下面艾力斯的工作人員就來(lái)為您具體的介紹一下不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法:

1、首先把不銹鋼標(biāo)牌表面油污、灰塵清洗,用棉布擦拭干凈,然后在用無(wú)水酒精溶解石蠟,加少量松香。

2、用不干膠紙需要蝕刻的圖案、文字外,并貼在標(biāo)牌上,將石蠟的酒精溶液涂覆在不干膠紙條以外的部分,并等酒精揮發(fā),使石蠟附在標(biāo)牌上形成了保護(hù)膜。

3、小心撕去不干膠紙,并用小刀(加熱)修飾圖案,將標(biāo)牌放入稀中,注意安全、通風(fēng)。

4、如果弄不到稀,可以用恒定電源加水的方法進(jìn)行電化學(xué)腐蝕):只要把后一步改成不銹鋼接電源正極、電源負(fù)極接石墨棒,石墨棒和不銹鋼同時(shí)侵入5%左右的水中通電(中間用半透膜隔開(kāi)),不銹鋼就被電解腐蝕了。




金屬標(biāo)牌蝕刻突破瓶頸的新模式

 金屬標(biāo)牌蝕刻是一種全新的蝕刻工藝,標(biāo)牌顧名思義大家都知道是什么,金屬標(biāo)牌所選用的材料一般為鋁、銅、不銹鋼板。而鋁所選用的鋁版一般為拉絲鋁板,擁有精致的線條紋路,使印刷出來(lái)的鋁牌顯得十分的精巧、美觀。而輕,柔,美就是鋁牌的特點(diǎn)。這種鋁表面還有一層保護(hù)膜保護(hù)好鋁牌不被刮花。2、這些金屬銘牌蝕刻技術(shù)方面的書籍近幾年倒是出過(guò)幾本,但書里列舉的加工配方和工藝都是學(xué)校里教學(xué)的風(fēng)格,不切合實(shí)際生產(chǎn)情況。蝕刻就是在它的上面進(jìn)行加工,一起來(lái)看看金屬標(biāo)牌蝕刻突破瓶頸的模式吧!

突破性的蝕刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)原子級(jí)的蝕刻精準(zhǔn)性,從而推動(dòng)摩爾定律發(fā)展;隨著芯片結(jié)構(gòu)日益精細(xì),選擇性工藝可在不損傷芯片的前提下清除不需要的材料;2、用不干膠紙需要蝕刻的圖案、文字外,并貼在標(biāo)牌上,將石蠟的酒精溶液涂覆在不干膠紙條以外的部分,并等酒精揮發(fā),使石蠟附在標(biāo)牌上形成了保護(hù)膜。該系統(tǒng)已獲得芯片制造商青睞,用于生產(chǎn)先進(jìn)FinFET和存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)先進(jìn)芯片的一個(gè)重要壁壘是在一個(gè)多層結(jié)構(gòu)芯片中有選擇性地清除某一特定材料,而不破壞其他材料是我們?cè)谖g刻領(lǐng)域中的又一大創(chuàng)新,豐富了我們的差異化產(chǎn)品線,通過(guò)實(shí)現(xiàn)選擇性清除工藝,推動(dòng)了摩爾定律發(fā)展,創(chuàng)造了新的市場(chǎng)機(jī)遇。

隨著先進(jìn)微型芯片的結(jié)構(gòu)日益復(fù)雜,其深而窄的溝槽為芯片制造帶來(lái)了全新的挑戰(zhàn),例如濕性化學(xué)成分無(wú)法穿透微小結(jié)構(gòu),或是無(wú)法在不損傷芯片的前提下清除不需要的物質(zhì)。Selectra系統(tǒng)的革命性工藝可進(jìn)入極狹小的空間,從而實(shí)現(xiàn)的選擇性材料清除和原子級(jí)的蝕刻精準(zhǔn)性,適用于各類電介質(zhì)、金屬和半導(dǎo)體薄膜。其廣泛的工藝范圍以及控制無(wú)殘留物和無(wú)損傷材料清除的能力,顯著擴(kuò)大了蝕刻技術(shù)的應(yīng)用范圍,可用于圖案化、邏輯、代工、3DNAND及DRAM等關(guān)鍵蝕刻應(yīng)用。由于電解蝕刻是在金屬導(dǎo)電的情況下形成蝕刻的,那么我們的產(chǎn)品在蝕刻下去有任何的深度時(shí)側(cè)面也將被蝕刻的,這樣很多精細(xì)圖案,精細(xì)文字將被蝕刻”爛“掉。憑借Selectra系統(tǒng)的豐富功能,芯片制造商能夠生產(chǎn)出先進(jìn)的3D設(shè)備,并探索新的芯片結(jié)構(gòu)、材料和集成技術(shù)。




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第二組噴嘴各自的噴淋面與前一組相對(duì)應(yīng)的皆略有不同(它 表示了噴淋的工作情況), 使噴射出的溶液形狀成為迭加或交叉的狀態(tài)。 理論上﹐如果溶 液形狀相互交叉, 該部分的噴射力就會(huì)降低而不能有效地將蝕刻表面上的舊溶液沖掉使新 溶液與其接觸。 在噴淋面的邊緣處, 這種情況尤為突出, 其噴射力比垂直噴射要小得多。 這項(xiàng)研究發(fā)現(xiàn)﹐新的設(shè)計(jì)參數(shù)是 65 磅/平方英寸(即 4 Bar)。 每個(gè)蝕刻過(guò)程和每種實(shí) 用的溶液都有一個(gè)很好的噴射壓力的問(wèn)題﹐就目前而言﹐蝕刻艙內(nèi)噴射壓力在 30 磅/平方 英寸(2Bar)以上的情況微乎其微。公司奉行專業(yè)化管理、規(guī)?;?jīng)營(yíng)的企業(yè)理念,以認(rèn)真、主動(dòng)、嚴(yán)格的做事風(fēng)格向用戶提供高品質(zhì)、高性價(jià)比的金屬蝕刻片產(chǎn)品。 但有一個(gè)原則﹐一種蝕刻溶液的密度(即比重或玻美 度)越高﹐很好的噴射壓力也應(yīng)越高。


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