如今在許多電鍍加工廠中相對(duì)于傳統(tǒng)的電鍍工藝，真空電鍍加工技術(shù)具有三大長(zhǎng)處：

一：堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據(jù)需要規(guī)劃涂層系統(tǒng)。

二：節(jié)省金屬資料：因?yàn)檎婵胀繉拥母街?、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當(dāng)優(yōu)良，堆積的真空電鍍鍍層能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于慣例濕法電鍍鍍層，到達(dá)節(jié)省的意圖。

全稱物理氣相沉積，是一種工業(yè)制造上的工藝，是主要利用物理過(guò)程來(lái)沉積薄膜的技術(shù)。

工藝流程:

PVD前清洗→進(jìn)爐抽真空→洗靶及離子清洗→鍍膜→鍍膜結(jié)束，冷卻出爐→后處理（拋光、AFP）

技術(shù)特點(diǎn):

PVD可以在金屬表面鍍覆高硬鍍、高耐磨性的金屬陶瓷裝飾鍍層

五、電鍍

是利用電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止腐蝕，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性及增進(jìn)美觀等作用的一種技術(shù)。

工藝流程：

前處理→無(wú)qing堿銅→無(wú)qing白銅錫→鍍鉻

優(yōu)點(diǎn)：

1、鍍層光澤度高，金屬外觀；

2、基材為SUS、Al、Zn、Mg等；成本相對(duì)PVD低。

有必要等其他人員悉數(shù)脫離機(jī)械作業(yè)區(qū)，并拿走作業(yè)臺(tái)上的雜物后，方可發(fā)動(dòng)電源開動(dòng)機(jī)械。

機(jī)械作業(yè)時(shí)，制止將手伸入滑塊作業(yè)區(qū)，制止用手取、放工件。在高速工藝中，我們需要確保使用質(zhì)量平衡的工具，該工具已根據(jù)所使用的編程RPM進(jìn)行評(píng)級(jí)。在沖模內(nèi)取、放工件時(shí)有必要運(yùn)用符合規(guī)范的東西。如發(fā)現(xiàn)機(jī)械有異常聲響或機(jī)器失靈，應(yīng)立即封閉電源開關(guān)進(jìn)行查看。機(jī)械開動(dòng)后，由一人運(yùn)料及機(jī)械操作，其他人不得按動(dòng)電建或腳踩腳踏開關(guān)板，為了他人安全更不能將手放入機(jī)械作業(yè)區(qū)或用手觸動(dòng)機(jī)械的運(yùn)動(dòng)部分