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基本原理是在500℃以上高溫條件下,使石墨中的雜質(以硅酸鹽礦物為主)與燒jian,即NaOH起反應,生成水溶性反應物,用水浸取反應物,即可消除掉部分雜質,另一部分雜質,如鐵的氧化物,堿熔后用HCl中和,生成可溶子水的氯化鐵,用水洗滌即可除去。
上述工藝流程中,NaOH濃度為50%左右,與石墨按1:0.8的比例混合,即生產1 t高碳石墨消耗NaOH0.4t左右。HCl的加入量約為石墨的30%。燃料用煤約為0.6-0.7t。堿熔法所用設備主要有錨式攪拌機,熔融爐、螺旋漿攪拌機、V型洗滌槽等?;厥章?5—90%,投資15—20萬元。這種,工藝雖較先進,但也存在耗水量大、石墨流失多,生產率較低,耗堿量大,且排放的廢液污染環(huán)境等不足。
石墨舟推舟系統(tǒng):石墨舟推舟系統(tǒng)采用軟著陸的方式,即將石墨舟放到反應管內部后,石墨舟推舟機構將退出,自動門關上。載片舟是經特殊設計,在X軸、Y軸、Z軸三個方向可微調,再經精加工而成。它直接影響到電場的分布、等離子的產生、氣流的走向、膜的品質。成膜壓力甚至氣體的流量都與此結構有關,所以推舟系統(tǒng)是本設備的核心部件。 管式PECVD系統(tǒng):即使用像擴散爐管一樣的石英管作為沉積腔室,使用電阻爐作為加熱體,將一個可以放置多片硅片的石墨舟插進石英管中進行沉積。