鍍膜設(shè)備的鍍膜方式及特點

鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍，鍍膜設(shè)備的特點：成膜速度快0.1-50um/min，設(shè)備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機理較簡單。

瓷磚真空鍍膜設(shè)備

經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高，可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設(shè)備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設(shè)備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設(shè)備特點：配強大抽氣系統(tǒng)，抽氣快，裝載量大，產(chǎn)能高，生產(chǎn)成本低。可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術(shù)可以得到各種彩色花紋圖案。經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高。

真空鍍膜檢漏有哪3個過程?

真空鍍膜檢漏有哪3個過程？ (1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內(nèi)部噴吹被檢件。如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導(dǎo)致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。