影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對(duì)鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過拋光處理，對(duì)于粗糙的表面，經(jīng)過微弧氧化，可修復(fù)的平整光滑；對(duì)于粗糙度低（即光滑）的表面，則會(huì)增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化會(huì)有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化技術(shù)的應(yīng)用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應(yīng)用在許多領(lǐng)域。如，航空、航天、汽車、船舶、機(jī)械、石油、化工、、電子等行業(yè)。盡管微弧氧化技術(shù)已經(jīng)在這些方面有些應(yīng)用，并且呈現(xiàn)新的應(yīng)用前景，但是推廣應(yīng)用的力度還不夠，這里包括技術(shù)和經(jīng)濟(jì)等多方面原因，有待于我們進(jìn)一步深入研究。微弧氧化技術(shù)有哪些用途微弧氧化技術(shù)用于常規(guī)陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強(qiáng)化處理。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜,至今還沒有一個(gè)合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。對(duì)于粗糙度較高的工件，經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整。

微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積 或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強(qiáng)電化學(xué)表面陶瓷化  。該技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)是：在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成的強(qiáng)化陶瓷膜的方法。2、高結(jié)合力基體原位生長陶瓷膜，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),陶瓷膜致密均勻。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)設(shè)備