離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實(shí)大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如：拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑，或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi)，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì)；激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留，還會(huì)有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物，這些處理引起的污染不徹底清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調(diào)整清洗工藝，對(duì)不同的污染，可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽(yáng)極電解、或采用針對(duì)性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù)，該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)有哪些優(yōu)點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金工具，那么它有哪些優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)呢？下面至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

（1）PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上，對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

（2）典型的PVD涂層加工溫度在250℃~450℃之間；

（3）涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為3~6小時(shí)；

（4）PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復(fù)合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

新型磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術(shù)，大家都會(huì)立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機(jī)也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜工藝。

其實(shí)從一般的金屬靶材濺射、反應(yīng)濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術(shù)的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領(lǐng)域的發(fā)展趨勢(shì)。低壓濺射的關(guān)鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術(shù)中不足以維持靶材表面的輝光放電,導(dǎo)致濺射沉積無法繼續(xù)進(jìn)行。通過優(yōu)化磁場(chǎng)設(shè)計(jì),使得電子空間運(yùn)動(dòng)距離延長(zhǎng),非平衡磁控濺射技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)在10-2Pa等級(jí)的真空下進(jìn)行濺射沉積。另外,通過外加電磁場(chǎng)約束電子運(yùn)動(dòng)可以實(shí)現(xiàn)更低壓強(qiáng)下的濺射沉積。進(jìn)行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實(shí)現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時(shí),不會(huì)產(chǎn)生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應(yīng)提高等。目前,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。

真空離子鍍膜設(shè)備的操作步驟是什么

在操作真空離子鍍膜設(shè)備時(shí)，請(qǐng)參閱設(shè)備規(guī)格、儀表板指針顯示和每個(gè)旋鈕下的標(biāo)記說明：檢查真空離子鍍膜設(shè)備操作控制開關(guān)處于“關(guān)閉”位置。打開主電源開關(guān)為設(shè)備供電。按“復(fù)位”和鈕復(fù)位整臺(tái)機(jī)器的控制電源。

啟動(dòng)水冷卻系統(tǒng)，連接真空離子鍍膜設(shè)備的冷卻水。操作臺(tái)上的控制方式選擇開關(guān)是以“自動(dòng)齒輪”保持泵VP1和VP2啟動(dòng)，助推器泵BP和擴(kuò)壓泵DP啟動(dòng)預(yù)熱，時(shí)間約60分鐘。將全纏繞鋁線送絲盤放入軸銷，然后安裝在支撐板上。

鋁線通過送絲輪和管道通到蒸發(fā)船的頂部，調(diào)整彈簧的張力，使壓輪不打滑地壓緊鋁絲，使鋁線順利運(yùn)輸。用石墨紙包裹蒸發(fā)舟的兩端，然后將其壓入電極。關(guān)閉蒸發(fā)罐擋板?；木硗舶惭b在卸料軸上，空卷筒安裝在收集器軸上，然后放卷座和卷軸座分別固定。調(diào)整基材和筒芯的位置，并將筒芯泵緊。

在觸摸屏主控制屏上設(shè)置真空離子鍍膜設(shè)備的卷繞參數(shù)，包括直徑、寬度、張力、停止直徑、卷繞速度、卷繞張力等。根據(jù)卷繞流程圖，從放電軸繪制基片，并將其纏繞到采集軸，并在操作過程中對(duì)薄膜進(jìn)行緊固和對(duì)齊。按下操作臺(tái)上的“收卷”按鈕，收卷系統(tǒng)按設(shè)定值進(jìn)入零速?gòu)埩Ρ３譅顟B(tài)，收卷系統(tǒng)將收卷物料。