研磨機變速控制階段的特征

研磨機變速控制階段的特征 研磨機是平面研磨處理的主要設(shè)備，在五金制品、藍寶石襯底、硅片等產(chǎn)品具有重要應(yīng)用意義。在研磨機整個工作過程中有三個階段，不同階段的速度有所不同。下面就來簡單探討這三個階段的研磨機速度是怎樣的？ 在開始階段，研磨機應(yīng)該呈升速狀態(tài)，可以通過人為控制磨具速度從零由慢到快增速。在正式階段，研磨機應(yīng)該處于恒速旋轉(zhuǎn)。在結(jié)束階段，加速度的變化出現(xiàn)一個拐點，速度由值慢慢減小到零。

東研研磨機的配件耗材介紹

東研研磨機的配件耗材介紹 研磨機是研磨加工行業(yè)的核心設(shè)備，承擔(dān)著研磨行業(yè)整個加工效率。我們知道任何一個款機械設(shè)備都需要很多大小不一的配件來幫助完成運行，而研磨機的主要研磨耗材有研磨液、研磨盤、拋光皮、拋光布、拋光液等。 像東研的研磨液系列有很多款，鉆石研磨液312、320、330、340，研磨液的使用可以幫助研磨機提高研磨效率。東研的拋光皮常見的有粗磨皮、進口拋光皮，是研磨拋光工藝中非常普遍的耗材。前面有提到研磨液，那么相對的就有拋光液，東研的拋光液主要有銅/陶瓷拋光液、不銹鋼/鋁材拋光液、銀拋光液、鏡面拋光液以及鉆石拋光液。

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5～IT01，表面粗糙度可達Ra0.63～0.01微米。平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關(guān)于平面研磨機加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

平面研磨機的研磨拋光方式介紹

平面研磨機的研磨拋光方式介紹 平面研磨機對工件的加工主要分為精磨、粗磨以及薄片工件加工三種研磨拋光方式，對較窄的平面進行研磨時，由于工件是不容易與平板貼合的很好的，這時會選擇使用靠鐵進行研磨，用于保證工件的垂直度，而在大批量的進行工件的研磨加工的時候，是可以使用“C”形夾，要將幾個工件夾在一起來同時的進行加工研磨，既能夠防止工件加工面的傾斜，還能夠提高平面研磨機研磨時的加工效率，適合量產(chǎn)加工。 平面研磨機在進行薄片工件研磨加工的適合，由于工件是比較容易產(chǎn)生變形的，這個適合的是采用將工件嵌入木塊內(nèi)來進行研磨，這就能夠有效地控制工件產(chǎn)生變形，工件在槽平板上比較容易使工件表面貼合良好，不會是工件的表面形成弧形，而工件的精研磨應(yīng)該在光滑的平板上進行，主要是用以保證工件的平面度。