多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)?系統(tǒng)鈣鈦礦熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)公司

多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)

想了解更多關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)資訊，請持續(xù)關(guān)注本公司。

主要用途：

用于納米級單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統(tǒng)組成:

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空測量、膜厚測試、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度5.0×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數(shù)量：4支水冷結(jié)構(gòu)；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)?；臏囟葟氖覝刂?00℃

4套擋板系統(tǒng)：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

      歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！

小方分子提純設(shè)備鈣鈦礦熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)公司

小方分子提純設(shè)備　　

用來生長有機(jī)材料提純的研究工作?！　?

系統(tǒng)組成:　　該類設(shè)備為單室結(jié)構(gòu)?！　?

極限真空≤610-4Pa，工作壓力≤2*10-3Pa；　　

系統(tǒng)漏率≤6.7×10-7PaL/s?！　?

鍍膜室：腔室尺寸約為Φ50×350mm，石英材料，圓柱形結(jié)構(gòu)?！　?

抽氣系統(tǒng)：采用分子泵 機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)；　　

樣品可加熱，加熱溫度為：200-600℃；

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)　　

想要了解更多電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容，請及時(shí)關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。

有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，歡迎新老客戶蒞臨。

有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀采用直線式結(jié)構(gòu)，主要由二個(gè)有機(jī)材料生長室組成，兩個(gè)有機(jī)材料生長室之間通過閘板閥聯(lián)接，其中一個(gè)生長室系統(tǒng)預(yù)留與手套箱對接接口，能夠完成二套獨(dú)立的制備薄膜系統(tǒng)之間互相傳送基片。6×10Pa（短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）樣品臺(tái)：尺寸為4英寸平面樣品。有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀的有機(jī)材料生長室主要由真空室腔體組件、有機(jī)蒸發(fā)源、熱阻蒸發(fā)舟、樣品傳遞裝置、樣品臺(tái)、膜厚監(jiān)測儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。