經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻：一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

當(dāng)光線照bai射到乳劑時(shí)，鹵化銀中的微小晶體會發(fā)生du變化，當(dāng)顯影時(shí)zhi，受到光線照射而發(fā)生dao變化的晶體會形成黑色的金屬銀晶體。結(jié)果畫幅中受到光線照射的區(qū)域會轉(zhuǎn)變?yōu)榈灼习岛谏慕饘巽y區(qū)域。

畫幅中那些沒有受光線照射的區(qū)域又會怎樣呢？這些區(qū)域的鹵化銀晶體沒有變化，在顯影過程中就會被沖洗掉。因此，畫幅中沒有受到光線照射的區(qū)域在底片上會變?yōu)榭盏膮^(qū)域。這些區(qū)域中所剩下的只是膠片的透明片基。

這兩種極端的情況很容易理解，下面我們考慮現(xiàn)實(shí)生活中可能出現(xiàn)的情況。當(dāng)我們拍攝一張照片時(shí)曝光一幅膠片，會發(fā)生什么呢？強(qiáng)光會落到膠片上的某些區(qū)域，弱一點(diǎn)的光會落到另外一些區(qū)域，而在某些區(qū)域上根本就沒有任何光線，從而出現(xiàn)如下結(jié)果：

膠片上被極亮度光線照射的區(qū)域，在顯影時(shí)。其上幾乎所有的鹵化銀晶體都將轉(zhuǎn)化成黑色的金屬銀，這些區(qū)域在底片上是黑色的。

不能用金屬盆)顯像:膜面朝上放入感光板(雙面板須懸空)每隔數(shù)秒搖晃容器或感光板，直到銅箔清晰且不再有綠色霧狀冒起時(shí)即顯像完成。此時(shí)需再靜待幾秒鐘以確認(rèn)顯像完成。標(biāo)準(zhǔn)操作顯像時(shí)間約1-2分鐘，顯影可在一般光線下進(jìn)行，關(guān)鍵的就是要隨時(shí)注意觀察顯影的進(jìn)度，不可照搬顯影時(shí)間。3.水洗:4.干燥及檢查:為了確保膜面無任何損傷，能做到此步驟。即利用吹風(fēng)機(jī)吹干，短路處請用小刀刮凈，斷線處用油性筆等修補(bǔ)。