公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

刻蝕或離子注入完成后，將進行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進行半導體器件制造的其他步驟。通常，半導體器件制造整個過程中，會進行很多次光刻流程。數(shù)字圖像處理中，圖像掩模主要用于：①提取感興趣區(qū),用預先制作的感興趣區(qū)掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區(qū)圖像,感興趣區(qū)內(nèi)圖像值保持不變,而區(qū)外圖像值都為0。生產(chǎn)復雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻，而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些。

色彩：物體的色彩來源于光。自然界中絕大部分物體本身是不發(fā)光的，如印刷品、花草、樹木。它們的顏色是來自對太陽光譜的色光加以反射或透射而產(chǎn)生的。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。自然界中光的三原色是紅、綠、蘭，這三種色光不同的組合可組成無數(shù)種色光；色料的三原色是青、品紅和黃，理論上，此三色顏料不同比例的混合，可得到自然界中1切顏色。

在容柵電子光學微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。硅片上有了電路圖的圖樣后，就輪到刻蝕機登場，刻蝕機相當于木匠的鋸子、斧頭、鑿子、刨子。另一個，當施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導致光源的光學散射與繞射，從而導致曝i光的規(guī)格偏差，而且導致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構(gòu)造。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長，主要用于掩膜版

蘇達掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版