多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)?系統(tǒng)300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)批發(fā)

多源有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)

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主要用途：

用于納米級(jí)單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統(tǒng)組成:

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空測(cè)量、膜厚測(cè)試、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度5.0×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數(shù)量：4支水冷結(jié)構(gòu)；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)。基片的溫度從室溫至600℃

4套擋板系統(tǒng)：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

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多源蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)供應(yīng)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

系統(tǒng)主要用來生長(zhǎng)EL OEL分子有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜的研究工作　　

該類設(shè)備為雙室?guī)痔紫浣Y(jié)構(gòu)的有機(jī)、無機(jī)、多源有機(jī)、無機(jī)氣相分子沉積設(shè)備，采用直線式結(jié)構(gòu)，由一個(gè)金屬材料生長(zhǎng)、氧化物生長(zhǎng)室、一個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室和一個(gè)手套箱組成，金屬材料生長(zhǎng)和氧化物生長(zhǎng)室以及進(jìn)樣室/氧化物生長(zhǎng)室之間通過空氣鎖聯(lián)接，樣品通過帶遠(yuǎn)程手控盒功能的電動(dòng)磁力耦合裝置在兩個(gè)生長(zhǎng)室之間手動(dòng)傳遞?？蛇x手套箱。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域?！　?/span>