微弧氧化

       采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進(jìn)行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，滿足優(yōu) 質(zhì)清潔生產(chǎn)的需要，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強（CASS鹽霧試驗>480h），絕緣性好（膜阻>100MΩ），膜層與基底金屬結(jié)合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；還可采用不同的電解液對同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高，但并不意味著微弧氧化就屬于市場的專有產(chǎn)物。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化哪家好

微弧氧化時間對表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時間的延長近似呈線性增長。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系，而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過程。在氧化初期，作用在膜層上的能量較低，產(chǎn)生的熔融物顆粒較少，膜層的表面粗糙度較低；隨著時間的延長，膜層表面的能量密度逐漸增大，熔融的氧化產(chǎn)物增多，并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下，氧化物冷卻凝固，并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中，產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多，從而增大了膜層表面的粗糙度。在手機中框，筆記本殼體，飛機的某些零部件，鎂合金醫(yī)用器材等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用價值。另外，在成膜過程中同時存在氧化膜的溶解過程，因此，若時間足夠長，膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會出現(xiàn)小幅度的下降。

微弧氧化封孔處理

       由于微弧氧化陶瓷層表面分布著大量的微孔放電通道，腐蝕介質(zhì)能通過孔隙浸入鎂合金基體產(chǎn)生腐蝕，在微弧氧化后對鎂合金表面進(jìn)行封孔處理，在孔隙的吸附作用下，封孔劑循著這些微孔或裂紋進(jìn)入并填充，降低氧化膜的孔隙率，使外層疏松層逐漸變得致密，膜層與基體結(jié)合良好，復(fù)合膜層具有更加致密和均勻的微結(jié)構(gòu)，腐蝕電位正移，腐蝕電流密度降低，腐蝕電阻增大，進(jìn)一步提升了MAO陶瓷層的耐蝕耐磨能力，同時可以增加膜層的色澤，改善膜層的美觀性，或為其他膜層和結(jié)構(gòu)材料的制備提供優(yōu)良的襯底。4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。

微弧氧化技術(shù)都可以處理哪些材料？

       現(xiàn)階段，微弧氧化技術(shù)處理的材料為鎂、鋁、鈦及其合金，另外鉭、鈮、鋯、鈹?shù)炔牧媳砻嬉部梢灾苯舆M(jìn)行微弧氧化。我公司能夠在以上金屬表面進(jìn)行相關(guān)性能的微弧氧化膜層制備。此外，其它一些材料如不銹鋼也有文獻(xiàn)報道可進(jìn)行微弧氧化處理，但是需先進(jìn)行表面處理，如在其表面進(jìn)行熱浸鍍鋁然后進(jìn)行微弧氧化。因此該工藝可以被視為既不消耗陰極又基本不消耗電解液溶質(zhì)元素的清潔處理。對于這類材料，前期處理極為關(guān)鍵，將直接關(guān)系后期膜層的性能。