這種鍍鈦涂層工藝生產(chǎn)出來的精密零件，往往具有很好的耐磨性，較其他未氮化鈦涂層的金屬而言，更能夠承受腐蝕等不良環(huán)境的考驗，使用壽命較長，且氮化鈦用作鍍鈦涂層可有效的增強金屬的表面硬度，使金屬的耐磨性增強，氮化鈦良好的導電性能能夠使產(chǎn)品適用于醫(yī)學、玻璃以及手飾等行業(yè)有很多公司搞滾子結(jié)構(gòu)不徹底，出現(xiàn)效果不明顯，認為是結(jié)構(gòu)不行，其實是人不行而已。為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cm)。他們會采用結(jié)構(gòu)鑲件表面鍍鈦來加大光滑度，這種也可以，不過效果稍差

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；2磁控濺射陰極結(jié)構(gòu):目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規(guī)格:VT機:長×寬×厚(450。通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進行輝光放電，這時(Ar)原子電離成離子(Ar )，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面?！R射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。