真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢?

真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢？ 1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系. 2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的. 3.真空鍍膜設(shè)備無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當(dāng)小。

實驗室中使用小型鍍膜設(shè)備

實驗室中使用小型鍍膜設(shè)備 我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設(shè)備，下面我們就來了解一下這種設(shè)備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動方式。 排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

真空鍍膜機注意事項及保養(yǎng)

真空鍍膜機注意事項及保養(yǎng) 真空鍍膜機的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)溫度，熱蒸發(fā)成蒸氣分子材料，蒸發(fā)出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機廣泛應(yīng)用于微電子，光學(xué)成膜，裝飾，表面工程等領(lǐng)域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設(shè)備長期穩(wěn)定的運行，正確的使用及保養(yǎng)方法是必不可少的。 開機前要檢查水電氣是否正常，開機后，光控系統(tǒng)等于要先穩(wěn)定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護板，防止離子源柵網(wǎng)損壞。為了使光學(xué)鍍膜機能正常工作，平時需要對機器進行保養(yǎng)，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設(shè)備及周邊環(huán)境，保持設(shè)備及環(huán)境的干凈。