什么是蝕刻標(biāo)牌？

蝕刻標(biāo)牌是指金屬標(biāo)牌的圖片與金屬表面不在同一個(gè)表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標(biāo)牌有圖文的性，常用于機(jī)械設(shè)備標(biāo)牌和一些使用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標(biāo)識(shí)的場(chǎng)合。

蝕刻標(biāo)牌是傳統(tǒng)性的標(biāo)牌。一直業(yè)內(nèi)大家都習(xí)慣稱它為腐蝕標(biāo)牌。有人說叫它腐蝕標(biāo)牌不是很妥切，因?yàn)楦g一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結(jié)果；但除了某些設(shè)備和工具比以前先進(jìn)了之外，所有工藝大都沒有以前正規(guī)的標(biāo)牌廠那樣嚴(yán)格正規(guī)，很多人只想打破由正規(guī)渠道學(xué)技術(shù)的模式，使得粗制濫造的現(xiàn)象很普遍。而蝕刻則是一種有意識(shí)、有選擇性的，為達(dá)到預(yù)期目的而實(shí)施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經(jīng)歷了二十多年的發(fā)展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統(tǒng)工藝。

有時(shí) 較劇烈的振顫都有可能損傷銅箔。 5. 減少污染的問題 銅對(duì)水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問題﹐而氨堿蝕刻液的使用更加重了這 個(gè)問題。 因?yàn)殂~與氨絡(luò)合﹐不容易用離子交換法或堿沈淀法除去。 所以﹐采用無銅的添加 液來漂洗板子(第二次噴淋操作的方法)﹐可大大地減少銅的排出量。 然后﹐再用空氣刀在 水漂洗之前將板面上多余的溶液去除﹐從而減輕了水對(duì)銅的蝕刻的鹽類的漂洗負(fù)擔(dān)。 在自動(dòng)蝕刻系統(tǒng)中, 銅濃度是以比重來控制的。 在印制板的蝕刻過程中﹐隨著銅不 斷地被溶解﹐當(dāng)溶解的比重不斷升高至超過一定的數(shù)值時(shí)﹐系統(tǒng)便會(huì)自動(dòng)補(bǔ)加氯化銨和氨 的水溶液﹐使比重調(diào)整回合適的范圍。專業(yè)提供蝕刻標(biāo)牌、不銹鋼標(biāo)牌工藝要求：1、不銹鋼板須刨坑折彎焊接（不銹鋼板須先刨坑后折彎，以保證邊緣挺拔度）。

蝕刻是在光刻過的基片上可通過濕刻（wet etching）和干刻（dry etching）等方法將 阻擋層上的平面二維圖形加工成具有一定深度的立體結(jié)構(gòu)。選用適當(dāng)?shù)奈g刻劑，使 它對(duì)光膠、薄膜和基片材料的腐蝕速度不同，可以在薄膜或基片上產(chǎn)生所需的微結(jié) 構(gòu)。 ? 復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)可通過多次重復(fù)薄膜沉積－光刻－蝕刻這三個(gè)工序來完成。微流控基片通過預(yù)處理，涂膠，前烘，曝光，顯影及堅(jiān)膜，去膠等步驟后，材料上 呈現(xiàn)所需要的圖形，即通道網(wǎng)絡(luò)。 蓋板與微流控芯片基片的封接 ?要更進(jìn)一步地改善,可以透過對(duì)板中心和邊緣處不同的噴淋壓力,以及對(duì)板前沿和板后端采用間歇蝕刻的方法﹐達(dá)到整個(gè)板面的蝕刻均勻性。 基片和蓋板封接后形成封閉的小池，可用來儲(chǔ)存試劑或安裝電極。