光降解地膜的分析

由于太陽光照是廉價的引起降解的能源，因此，光降解地膜得到競相開發(fā)。對光降解可控性的試驗結(jié)果表明，調(diào)節(jié)光敏劑的用量，可粗略地調(diào)控地膜的光降解誘導(dǎo)期，但較好的方法是采用穩(wěn)定降解型控制劑和協(xié)同降解型控制劑。可控光降解地膜的特點是：在完成農(nóng)作物生長周期后迅速降解。光降解膜的降解過程擬以兩個途徑同時存在或交錯進行：有膜→光解→無膜和有膜→微生物降解→無膜。

地膜籠蓋西瓜種植技術(shù)

一、壤選擇，輪作倒茬

1、土壤選擇：選擇勇氣性好，土壤閑暇度大的砂質(zhì)土壤，早春地溫回升快，可促進幼苗發(fā)展，晝夜溫差大有益于植物的發(fā)展發(fā)育和果實糖分的積累，黏土可舉行改良，如多施有機肥、菌渣、草灰等。

2、輪作倒茬：西瓜非常忌連作．連作往后容易發(fā)生枯萎?。喿髂晗抟话阍?—7年擺布．前茬作物多為小麥、王米、棉花等，后茬一般是蔬菜，如白菜、蘿卜、菠菜等。

3、間作套種常與小麥．大麥、油菜．花生等套種，也可與幼齡果園、棉花套種。

西瓜種植技術(shù)

二、整地．、施基肥

首先深翻曬地、然后是施基肥，大多用腐熟的豬糞或廄肥，除草地膜專利，用量為每畝約3000kg-4000公斤，再作配方肥(N:P:K=15:8:27)20公斤，加少量多菌靈．殺蟲拌勻后撒施，非常后是起壟，壟間距2.5—3米，壟高30厘米每壟分兩行、做成龜背形、行間距30厘米，行高20厘米．行寬30厘米。

裝飾地面保護膜的性能；

外觀：

地磚保護膜的表面應(yīng)當(dāng)平整光滑，無皺折或僅有小批的活褶，無明顯的崎嶇不服、斑點、雜質(zhì)、沒有條紋、斑痕、無氣泡，鍍鋁膜的鍍鋁層應(yīng)當(dāng)勻稱，不允許有明顯的亮條、陰陽面等現(xiàn)象。此外，地面保護膜瓷磚，還要求保護膜表面潔凈潔凈，無灰塵、油污等。

4、表面張力

為了使印刷油墨和復(fù)合用膠黏劑在地磚保護膜表面具有良好的潤濕性和黏合性，要求保護膜的表面張力應(yīng)達到必然的尺度，否則就會影響油墨和膠黏劑在其表面的附出力和黏合性，從而影響印刷品和復(fù)合產(chǎn)品的質(zhì)量。比如雙向拉伸聚***保護膜和低密度聚乙烯保護膜的表面張力要求達到3.8 ×10-2N/m 以上，尼龍保護膜、聚酯保護膜和聚酯鍍鋁膜的表面張力一般要求達到4.5 × 10-2N/m 以上。一般來說，塑料薄膜在印刷或者復(fù)合之前都必需經(jīng)由表面處分以進步其表面張力，并可以或許順利地舉行印刷和復(fù)合。