吸塵器濾網(wǎng)蝕刻工藝產(chǎn)品蝕刻特點(diǎn)

一、低開(kāi)模費(fèi),可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行任意更改，成本低，模版的制作周期短。

二、新產(chǎn)品蝕刻設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)變更靈活，費(fèi)用低，可以實(shí)現(xiàn)金屬表面的半蝕刻刻，增加公司LOGO，實(shí)現(xiàn)品牌化生，以防盜用。

三、極高的精密度,高可達(dá) /-0.0075mm的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求，材料越薄，精度控制相對(duì)越高。我們可以加工薄0.02mm厚的金屬材料，直至1mm厚，都可以實(shí)現(xiàn)批量化的生產(chǎn)加工，而且加工的質(zhì)量穩(wěn)定，批次清楚，品控體系嚴(yán)格。

四、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無(wú)需額外增加成本。小型化，多樣化的同樣可以應(yīng)對(duì)。為國(guó)內(nèi)外不同的客戶實(shí)現(xiàn)定制服務(wù)的機(jī)會(huì)。而不會(huì)只做大批量的產(chǎn)品。我們有專門(mén)的樣品樣制工程組，能實(shí)現(xiàn)小批量產(chǎn)品的快速交貨，同時(shí)品質(zhì)又能得到保證。

五、沒(méi)有毛刺，壓點(diǎn)，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能。特別針對(duì)有表面組裝要求的，光潔度要求的產(chǎn)品，興之揚(yáng)蝕刻加工很好的解決了沖壓和線割以及激光切割加工的各種不足。其次耐蝕性也是在某一回火溫度范圍內(nèi)變得很不好，由于回火脆性和耐蝕性變壞的溫度范圍大致上是相同的，因而必需防止在此溫度范圍內(nèi)回火。同時(shí)，精度又能滿足產(chǎn)品的要求，甚至比上述幾種工藝更好，擁有不可替代性。

六、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求。當(dāng)然，這種情況下也是相對(duì)的，這種蝕刻工藝針對(duì)厚薄材料是指允許加的范圍內(nèi)。

七、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對(duì)各種圖案設(shè)計(jì)無(wú)限制。針對(duì)特別精細(xì)的圖案，蝕刻工藝也能很好的提供解決方案。然而，對(duì)于一個(gè)給定的堿性蝕刻體系，pH值必須高于低值(依賴于銅的濃度)，目的是為了維持溶液中的銅鹽含量。不同的金屬材質(zhì)，需要配備不同的化學(xué)配方。比如：稀有金屬：鉬等，也同樣可以蝕刻加工。圖案可加的極限比沖壓更寬廣，深加工的能力更強(qiáng)，配合精密儀器，汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)過(guò)濾網(wǎng)，電器，攝像頭部件等，十分適合加工。

八、制造各類機(jī)械加工所無(wú)法完成的金屬部件。沖壓，激光完成不了精細(xì)，超薄材料的加工，蝕刻更容易應(yīng)對(duì)。

金屬蝕刻網(wǎng)片的熔煉過(guò)程：

1）一：這個(gè)階段主要是起弧。電爐通電后，電極發(fā)射熱電子，從陰極發(fā)出大量電子，高速電子可使中性的空氣分子離解成離子，從而空氣具有導(dǎo)電能力，產(chǎn)生電弧，釋放出大量的光和熱。

2）二：這個(gè)階段主要是電極穿井和極下?tīng)t料的熔化。通電起弧后，電極下的爐料受熱熔化。針對(duì)有表面組裝和光潔度要求的產(chǎn)品，蝕刻加工很好的解決了沖壓和線割以及激光切割加工的各種不足，精度又能滿足產(chǎn)品的要求，擁有不可替代性。隨著熔化的進(jìn)行，經(jīng)過(guò)15-25分鐘的時(shí)間，電極降到低位置。在此階段，電弧始終被爐料包圍，電弧所放出的熱量絕大部分用于加熱和熔化爐料，對(duì)爐蓋的熱輻射很少，應(yīng)該向爐內(nèi)輸送大功率。

3）三：這一階段主要是電極四周爐料的熔化和電極的回升。隨著熔化的進(jìn)行，液面不斷上升，電極也就相應(yīng)地上升。蝕刻早期用做銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地使用于減輕重量?jī)x器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工。在回升過(guò)程中，周?chē)臓t料逐漸熔化，當(dāng)爐內(nèi)只有爐坡和爐底還剩部分未熔爐料，即全部爐料熔化80%左右，這一階段結(jié)束。在這個(gè)階段，電弧在大部分時(shí)間中仍被冷料包圍，應(yīng)仍向爐內(nèi)輸送大功率。

4）四：這個(gè)階段主要是低溫爐區(qū)爐料的熔化。電弧是點(diǎn)熱源，爐膛內(nèi)的溫度分布不均勻，爐門(mén)附近，出鋼口兩側(cè)等處的爐料熔化較慢。當(dāng)鋼片為陰極時(shí)（陰極除油），其表面進(jìn)行的是還原反應(yīng)，析出氫氣。應(yīng)及時(shí)將這些地方的冷料推入熔池。在此階段液面仍緩慢上升，鋼水溫度已經(jīng)升高，電弧開(kāi)始暴露在液面上，輻射加強(qiáng)，應(yīng)該適當(dāng)降低輸入功率和電壓。

第二和第三階段是熔化過(guò)程的主要階段，占全部時(shí)間的70-80%，是決定熔化期時(shí)間長(zhǎng)短的主要因素。

為什么選用蝕刻不銹鋼？

海水淡化的方法主要有兩種：熱法和膜法。熱法包括多級(jí)閃蒸法（MSF）和多效蒸餾法（MED）。膜法包括反復(fù)滲透滲出（RO）和電滲析法/反復(fù)電滲析法（ED/EDR）。不銹鋼因?yàn)榫哂心颓治g特性用在各種淡化方法的工程中。

所有的淡化方法都是同樣的過(guò)程。引入的海水分為兩部門(mén)，一部門(mén)作處理，另一部門(mén)濃縮。處理的海水鹽濃度降低而濃縮的海水鹽度遠(yuǎn)高于原海水。5)接觸窗(Contact)及引洞(Via)蝕刻：應(yīng)用于定義接觸窗及引洞之尺寸大小。海水淡化過(guò)程所用設(shè)備材料需具有耐侵蝕的特性。材料的選擇和設(shè)計(jì)原則取決于材料的服役環(huán)境。不銹鋼因?yàn)槠淠颓治g和耐用性使其成為理想的材料。

興之揚(yáng)蝕刻不銹鋼網(wǎng)片小編來(lái)向大家說(shuō)說(shuō)電漿干法蝕刻制程參數(shù)：

電漿蝕刻制程參數(shù)一般包括了射頻(RF)功率、壓力、氣體種類及流量、蝕刻溫度及腔體的設(shè)計(jì)等因素，而這些因素的綜合結(jié)果將直接影響蝕刻的結(jié)果。

射頻(RF)功率是用來(lái)產(chǎn)生電漿及提供離子能量的來(lái)源，因此功率的改變將影響電漿中離子的密度及撞擊能量而改變蝕刻的結(jié)果。壓力也會(huì)影響離子的密度及撞擊能量，另外也會(huì)改變化學(xué)聚合的能力；蝕刻反應(yīng)物滯留在腔體內(nèi)的時(shí)間正比于壓力的大小，一般說(shuō)來(lái)，延長(zhǎng)反應(yīng)物滯留的時(shí)間將會(huì)提高化學(xué)蝕刻的機(jī)率并且提高聚合速率。氣體流量的大小會(huì)影響反應(yīng)物滯留在腔體內(nèi)的時(shí)間；增加氣體流量將加速氣體的分布并可提供更多未反應(yīng)的蝕刻反應(yīng)物，因此可降低負(fù)載效應(yīng)(LoadingEffect)；改變氣體流量也會(huì)影響蝕刻速率。原則上溫度會(huì)影響化學(xué)反速率及反應(yīng)物的吸附系數(shù)(AdsorptionCoefficient)，提高芯片溫度將使得聚合物的沉積速率降低，導(dǎo)致側(cè)壁的保護(hù)減低，但表面在蝕刻后會(huì)較為干凈；增加腔體的溫度可減少聚合物沉積于管壁的機(jī)率，以提升蝕刻制程的再現(xiàn)性。這些內(nèi)容包含于工藝流程的每一個(gè)步驟中，以及參與這些步驟的所有操作者的行為過(guò)程。晶圓背部氦氣循環(huán)流動(dòng)可控制蝕刻時(shí)晶圓的溫度與溫度的均勻性，以避免光阻燒焦或蝕刻輪廓變形。其它尚須考慮的因素還有腔體的材質(zhì)，一般常見(jiàn)的材質(zhì)包含鋁、陶瓷、石英、硅及石墨等，不同的腔體材質(zhì)會(huì)產(chǎn)生不同的反應(yīng)產(chǎn)物并會(huì)改變蝕刻的直流偏壓。