真空蒸發(fā)鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發(fā)鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發(fā)結(jié)晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發(fā)過(guò)程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達(dá)一定程度噴射出來(lái)的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來(lái)源為離子，并且微粒飛翔過(guò)程中有明顯離子狀態(tài)，并使用磁場(chǎng)控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備 我們?cè)趯?shí)驗(yàn)室中使用的基本上都是小型的鍍膜設(shè)備，下面我們就來(lái)了解一下這種設(shè)備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場(chǎng)所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)裝置，如用行星運(yùn)動(dòng)方式，這種運(yùn)動(dòng)方式成膜均勻性好，臺(tái)階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動(dòng)方式。 排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門(mén)組成。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因 光學(xué)鍍膜機(jī)主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對(duì)策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái); ㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專(zhuān)門(mén)的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng)，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。