隨著市場(chǎng)多元化的不斷需求，對(duì)于很多企業(yè)來(lái)說(shuō)需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購(gòu)置不同的機(jī)器設(shè)備，拿真空鍍膜行業(yè)來(lái)說(shuō)，如果一臺(tái)機(jī)器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預(yù)不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無(wú)疑是企業(yè)的香餑餑，在單設(shè)備上實(shí)現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設(shè)備行業(yè)企業(yè)的共同需求。

       真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無(wú)論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具性和智能自動(dòng)化。

       離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線(xiàn)方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。

       離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

      PVD鍍膜技術(shù)其功應(yīng)用，主要是裝飾鍍膜和工具鍍膜。對(duì)于幫助企業(yè)產(chǎn)品提升產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性和保持化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，可謂功不可沒(méi)。